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发明名称
SPUTTERING APPARATUS WITH A COIL HAVING OVERLAPPING ENDS
摘要
<p>A coil for inductively coupling RF energy to a plasma in a substrate processing chamber has adjacent spaced and overlapping ends to improve uniformity of processing of the substrate.</p>
申请公布号
WO1999048131(A1)
申请公布日期
1999.09.23
申请号
US1999005265
申请日期
1999.03.11
申请人
发明人
分类号
主分类号
代理机构
代理人
主权项
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