发明名称 |
COATING LIQUID FOR SILICA-BASED FILM FORMATION, PRODUCTION OF SILICA-BASED FILM, SILICA-BASED FILM AND SEMICONDUCTOR DEVICE |
摘要 |
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申请公布号 |
JPH11256106(A) |
申请公布日期 |
1999.09.21 |
申请号 |
JP19980056289 |
申请日期 |
1998.03.09 |
申请人 |
HITACHI CHEM CO LTD |
发明人 |
ENOMOTO KAZUHIRO;MORISHIMA HIROYUKI;NARITA TAKENORI;NOBE SHIGERU;YAMAMOTO YASUHIRO;WATANABE AKIRA;ITO OSAMU |
分类号 |
H01L21/316;C08G77/60;C09D183/16;(IPC1-7):C09D183/16 |
主分类号 |
H01L21/316 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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