| 发明名称 |
Resist development process |
| 摘要 |
A resist development process includes spinning a resist layer while immersing the resist layer in developer. |
| 申请公布号 |
EP0887710(A3) |
申请公布日期 |
1999.09.08 |
| 申请号 |
EP19980109959 |
申请日期 |
1998.06.02 |
| 申请人 |
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
LU, ZHIJIAN |
| 分类号 |
G03F7/30;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/30 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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