| 摘要 |
<p>Bekannt ist, zur Herstellung planarer optischer Wellenleiter mehrere Glasschichten auf einem Siliziumwafer aufzubringen. Dazu werden mittels Flammhydrolyse feine Glaspartikel auf dem Wafer verteilt und anschließend bei hohen Temperaturen zu einer zusammenhängenden Schicht verglast. Aufgrund unterschiedlicher thermischer Ausdehnungskoeffizienten kommt es beim Erkalten zu einer Krümmung der Siliziumwafer. Diese Krümmung wirkt sich nachteilig auf die folgenden Prozeßschritte und die Qualität der Lichtführung in den optischen Wellenleitern aus. Um diese Krümmung zu vermeiden, ist erfindungsgemäß vorgesehen, unmittelbar auf dem Siliziumwafer (SUB) eine Zwischenschicht (ZS) aufzubringen, deren thermischer Ausdehnungskoeffizient größer ist als der des Siliziumwafers und der auf der Zwischenschicht aufzutragenden untersten Glasschicht ("Pufferschicht, PS). Als Material für diese Zwischenschicht bietet sich wegen seines hohen Schmelzpunktes insbesondere Aluminiumoxid (Al2O3) an. <IMAGE></p> |
