| 发明名称 |
METHOD AND APPARATUS FOR GENERATING PLASMA, PLASMA-APPLIED SURFACE TREATMENT METHOD AND GAS TREATMENT METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH11224795(A) |
申请公布日期 |
1999.08.17 |
| 申请号 |
JP19980028277 |
申请日期 |
1998.02.10 |
| 申请人 |
SHIN SEIKI:KK;SUGIMOTO TOSHIMOTO;GOTO SEIICHI |
发明人 |
SUGIMOTO TOSHIMOTO;GOTO SEIICHI |
| 分类号 |
H05H1/36;C23C16/50;C23C16/515;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H05H1/36;H01L21/306 |
主分类号 |
H05H1/36 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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