发明名称 特别用于瓷砖的旋转上釉机
摘要 本发明涉及一种特别用于瓷砖的旋转上釉机,砖片在一可移动的支承平面上按预定方向被传送,有一旋转上釉装置设在支承平面的上方。该装置具有两个并排靠近设置的滚筒,两者都可设有可弹性变形的周边部,釉料可推积在其上,第一滚筒的砖片的上表面上作不受阻滞的接触滚动,从而将釉料转移到砖片上,而第二滚筒的旋转方向与第一滚筒相反,在与砖片上已被第一滚筒堆积的釉层接触时,可起到阻滞作用而使釉料均匀分布。
申请公布号 CN1223926A 申请公布日期 1999.07.28
申请号 CN97125930.5 申请日期 1997.12.24
申请人 西法尔公司 发明人 弗兰克·斯提芬尼
分类号 B28B11/04 主分类号 B28B11/04
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 马江立
主权项 1.一种特别是用来给瓷砖上釉的旋转上釉机,它包括:一个可移动的支承平面,以便将砖片放在其上使砖片按预定方向传送;一个位在所说支承平面上方的旋转上釉装置;其中所说旋转上釉装置包括:一个第一滚筒,可环绕其轴线旋转,具有一个可弹性变形的周边部,还有一个由弹性体材料制成的、光滑的外圆筒表面,在该表面上设有多个小穴;所说第一滚筒可被驱动环绕其所说轴线旋转,并能相对于所说支承平面而定位,以使所说圆筒形表面能不受阻滞地并能以预定的压力在被所说支承平面传送的砖片的上表面上滚动;至少一个第一刮刀,它被预先安排以便在所说第一滚筒的圆筒形表面上操作;一个第二滚筒,可环绕其轴线旋转,具有至少一个可弹性变形的周边部,还有一个由弹性体材料制成的、光滑的外圆筒表面,在该表面上设有多个小穴;所说第二滚筒被设置得与所说第一滚筒平行并被驱动环绕其所说轴线旋转,还能相对于所说支承平面而定位,以使所说圆筒形表面能起阻滞作用地并以预定的压力在被所说支承平面传送的砖片的上表面上滚动;至少一个第二刮刀,它被预先安排以便在所说第二滚筒的所说圆筒形表面上操作;还包括设在所说第一和第二刮刀上游的釉料分配器,以便将釉料堆积在所说第一和第二滚筒的所说圆筒形表面上。
地址 意大利摩德纳