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发明名称 PLASMA APPARATUS
摘要
申请公布号 KR100208769(B1) 申请公布日期 1999.07.15
申请号 KR19960020237 申请日期 1996.06.07
申请人 RYODEN SEMICONDUCTOR SYSTEM ENGINEERING CORPORATION;SHIKOKU INSTRUMENTATION CO., LTD.;MITSUBISHI DENKI KABUSHIKI KAISHA 发明人 KOBAYASHI, MASAYUKI;MAEDA, KIYOSHI;ITAMI, HYOGO;TOYOTA, MASATO;ONISHI, HIROSHI;TANAKA, HIROSHI;KOMEMURA, TOSHIO
分类号 C23F4/00;H01J37/32;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/306;H01L27/306 主分类号 C23F4/00
代理机构 代理人
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