| 主权项 |
1.一种电浆处理装置包括:一个电浆室,其具有一个窄窗成形于其侧壁,有待处理物件系设置于该窄窗内侧;一个矩形波导其系供耦合电浆室,该矩形波导具有设置于其E平面的长槽,因此相对于电浆室窄窗且沿矩形波导之波导轴向延伸,该矩形波导设置成矩形波导之波导轴向系平行电浆室窄窗纵向;及微波电源装置,其系供供应微波至矩形波导,其中该微波由矩形波导通过长槽发射至电浆室,该电浆处理装置之特征为又包括:至少两道长槽,其系设置于至少一个矩形波导;其中各该长槽纵长设定为波导之自由空间波长之1/2或以上;及其中该长槽设置为彼此平行,因此毗邻长槽于矩形波导之波导轴向彼此移位微波之自由空间波长之(2n-4)/4,此处n为自然数。2.如申请专利范围第1项之电浆处理装置,包括:至少两个矩形波导,个别具有至少一道长槽;及又有微波电源装置,其系供于毗邻另一矩形波导之一个矩形波导方向之不同方向供应微波至另一矩形波导。3.如申请专利范围第2项之电浆处理装置,包括:其中各该长槽为一个长槽矩阵,长槽矩阵系经由于矩形波导之波导轴向均等划分该长槽设置的多个小长槽组成,该电浆处理装置又包括:一个终止单元,其系设置于矩形波导终端且设有活动式短路板而沿矩形波导之波导轴向移动,其中该活动式短路板之位置可使矩形波导产生的电压驻波之峰之中部分别重合小长槽之纵向中部。4.如申请专利范围第1项之电浆处理装置,进一步包括:一个矩形波导其具有一个长槽,该长槽为一个长槽矩阵,长槽矩阵系经由于矩形波导之波导轴向均等划分该长槽设置的多个小长槽组成;及一个终止单元,其系设置于矩形波导终端且设有活动式短路板而沿矩形波导之波导轴向移动,其中该活动式短路板之位置可使矩形波导产生的电压驻波之峰之中部分别重合小长槽之纵向中部。5.一种电浆处理装置包括:一个电浆室,其具有一个窄窗成形于其侧壁,有待处理物件系设置于该窄窗内侧;一个矩形波导其系供耦合电浆室,该矩形波导具有设置于其E平面的一道长槽,因此相对于电浆室窄窗且沿矩形波导之波导轴向延伸,该矩形波导设置成矩形波导之波导轴向系平行电浆室窄窗纵向;及微波电源装置,其系供供应微波至矩形波导,其中该微波由矩形波导通过长槽发射至电浆室,该电浆处理装置之特征为:该长槽之纵长设定为微波之自由空间波长之1/2或以上,该电浆处理装置又包括:一个微波波导成形件,其系设于该长槽与该电浆室窄窗间,该微波波导成形件具有横剖面与长槽开口形状相同的微波波导;及一种介质,其由不会吸收微波的材料制成,该介质插入微波波导内之靠近沿矩形波导之波导轴向之矩形波导终端位置,该介质可反射部分微波而透射另一部分微波。6.如申请专利范围第5项之电浆处理装置,其中于长槽纵向之介质长度设定为微波之自由空间n/2,此处n为自然数,及其中该介质插入微波波导之长度系经由调整介质之微波透射系数设定,因此沿电浆室纵向之微波电场强度变成大体均匀。7.一种电浆处理装置包括:一个电浆室,其具有一个窄窗成形于其侧壁,有待处理物件系设置于该窄窗内侧;一个矩形波导其系供耦合电浆室,该矩形波导具有设置于其E平面的一道长槽,因此相对于电浆室窄窗且沿矩形波导之波导轴向延伸,该矩形波导设置成矩形波导之波导轴向系平行电浆室窄窗纵向;及微波电源装置,其系供供应微波至矩形波导,其中该微波由矩形波导通过长槽发射至电浆室,该电浆处理装置之特征为:该长槽之纵长设定为微波之自由空间波长之1/2或以上,该电浆处理装置又包括:一种活动式短路板,其系设于矩形波导终端,因此可沿矩形波导之波导轴向移动微波之波导波长之1/2或以上长度;及移动驱动装置,其系供定期或非定期沿矩形波导之波导轴向移动该活动式短路板。8.一种电浆处理装置包括:一个电浆室,其具有一个窄窗成形于其侧壁,有待处理物件系设置于该窄窗内侧;一个矩形波导其系供耦合电浆室,该矩形波导具有设置于其E平面的一道长槽,因此相对于电浆室窄窗且沿矩形波导之波导轴向延伸,该矩形波导设置成矩形波导之波导轴向系平行电浆室窄窗纵向;及微波电源装置,其系供供应微波至矩形波导,其中该微波由矩形波导通过长槽发射至电浆室,该电浆处理装置之特征为:该长槽之纵长设定为微波之自由空间波长之1/2或以上,该电浆处理装置又包括:一片活动式槽板,其具有一个开口,该开口长度比长槽于波导轴向之纵长更短,及宽度等于长槽宽度,该活动式槽板设置于介于长槽与电浆式窄窗间之空间,因此沿矩形波导之波导轴向移动而开口与长槽相对;及移动驱动装置,其系供定期或非定期移动该活动式槽板达微波之自由空间波长之1/2或以上长度。9.一种电浆处理装置,包括:一个电浆室,其具有一个窄窗成形于其侧壁,有待处理物件系设置于该窄窗内侧;一个矩形波导其系供耦合电浆室,该矩形波导具有设置于其E平面的一道长槽,因此相对于电浆室窄窗且沿矩形波导之波导轴向延伸,该矩形波导设置成矩形波导之波导轴向系平行电浆室窄窗纵向;及微波电源装置,其系供供应微波至矩形波导,其中该微波由矩形波导通过长槽发射至电浆室,该电浆处理装置之特征为:该长槽之纵长设定为微波之自由空间波长之1/2或以上,该电浆处理装置又包括:磁场产生装置,其系供于设于电浆室之物件与窄窗间之空间产生磁场,及其系供改变产生的磁场之方向及强度。10.如申请专利范围第2项之电浆处理装置,又包括:一微波波导成形件,其系设于该长槽与该电浆室窄窗间,该微波波导成形件具有至少二个微波波导,各微波波导之横面与各该长槽开口形状相同;及一介质,由不会吸收微波的材料制成,该介质在靠近沿矩形波导之波导轴向之每一矩形波导终端位置插入每一微波波导内,该介质可反射部分微波而透射另一部分微波,其中前述电浆处理装置中,于长槽纵向之各该介质长度设定为微波之自由空间n/2,此处n为自然数,及其中该介质插入微波波导之长度系经由调整各该介质之微波透射系数设定,因此沿电浆室纵向之微波电场强度变成大体均匀。11.如申请专利范围第9项之电浆处理装置,又包括:至少两个矩形波导,各自具有至少一道长槽;及另一微波电源装置,其系供于与毗邻另一矩形波导之一个矩形波导之方向相反方向,供应微波至另一矩形波导,及其中该等长槽设置成彼此平行,因此该等长槽于矩形波导之波导轴向彼此移位达微波之自由空间波长之(2n-1)/4,此处n为自然数。12.如申请专利范围第11项之电浆处理装置,又包括:一个微波波导成形件,其系设于该长槽与该电浆室窄窗间,该微波波导成形件具有横剖面与长槽开口形状相同的微波波导;及一种介质,其由不会吸收微波的材料制成,该介质插入微波波导内之靠近沿矩形波导之波导轴向之矩形波导终端位置,该介质可反射部分微波而透射另一部分微波。13.如申请专利范围第9项之电浆处理装置,又包括:一个微波波导成形件,其系设于该长槽与该电浆室窄窗间,该微波波导成形件具有横剖面与长槽开口形状相同的微波波导;及一种介质,其由不会吸收微波的材料制成,该介质插入微波波导内之靠近沿矩形波导之波导轴向之矩形波导终端位置,该介质可反射部分微波而透射另一部分微波,其中于长槽纵向之介质长度设定为微波之自由空间n/2,此处n为自然数,及其中该介质插入微波波导之长度系经由调整介质之微波透射系数设定,因此沿电浆室纵向之微波电场强度变成大体均匀。图式简单说明:第一图为平面图表示根据本发明之第一较佳具体例之电浆处理装置之概略构造;第二图为沿第一图线I-I'所取横剖面图;第三图为显示于第一图之电浆处理装置中微波电场强度相对于各长槽纵长之图;第四图为平面图表示根据本发明之第二较佳具体例之电浆处理装置之概略构造;第五图为沿第四图线I-I'所取横剖面图;第六图为显示于第四图之电浆处理装置中微波电场强度相对于各长槽纵长之图;第七图为平面图表示根据本发明之第三较佳具体例之电浆处理装置之概略构造;第八图为第七图之长槽矩阵之前视图;第九图为显示于第七图之电浆处理装置中微波电场强度相对于各长槽纵长之图;第十图为平面图表示根据本发明之第四较佳具体例之电浆处理装置之概略构造;第十一图为显示电浆密度及于第十图之电浆处理装置中微波电场强度相对于一道长槽纵长之图;第十二图为平面图表示根据本发明之第五较佳具体例之电浆处理装置之概略构造;第十三图为沿第十二图线I-I'所取横剖面图;第十四图为沿第十二图线T-T'所取横剖面图;第十五图为显示于第十二图之电浆处理装置中微波电场强度相对于一道长槽纵长之图;第十六图为对应于第十四图之部分之横剖面图,显示根据本发明之第五较佳具体例之第一修改之电浆处理装置;第十七图为对应于第十四图之部分之横剖面图,显示根据本发明之第五较佳具体例之第二修改之电浆处理装置;第十八图为对应于第十四图之部分之横剖面图,显示根据本发明之第五较佳具体例之第三修改之电浆处理装置;第十九图为显示于第十八图之电浆处理装置微波透射系数相对于介质厚度之图;第二十图为平面图表示根据本发明之第六较佳具体例之电浆处理装置之概略构造;第二十一图为沿第二十图线T-T'所取横剖面图;第二十二图为显示于第二十图之电浆处理装置中电浆密度相对于长槽纵长之图;第二十三图为对应于第十四图之部分之横剖面图,显示根据本发明之第七较佳具体例之电浆处理装置;第二十四图为对应于第十五图之横剖面图,显示第二十三图之电浆处理装置;第二十五图A、第二十五图B及第二十五图C为正视图,各自显示当活动式槽板移动时,于第二十三图之电浆处理装置中活动式槽板与开口间之关系,其中第二十五图A为于时间t1之正视图,第二十五图B为于时间t2之正视图,及第二十五图C为于时间t3之正视图;第二十六图为对应于第二十四图之横剖面图,显示根据本发明之第八较佳具体例之电浆处理装置;第二十七图为对应于第二十三图之横剖面图,显示根据本发明之第九较佳具体例之电浆处理装置;第二十八图为沿第二十七图线T1-T1'所取横剖面图;第二十九图为沿第二十七图线T2-T2'所取横剖面图;第三十图为显示于第二十七图之电浆处理装置中微波电场强度相对于各长槽纵长之图;第三十一图为对应于第二十三图及第二十七图之横剖面图,显示根据本发明之第十较佳具体例之电浆处理装置;第三十二图为沿第三十一图线T1-T1'所取横剖面图;第三十三图为沿第三十一图线T2-T2'所取横剖面图;第三十四图为显示于第三十一图之电浆处理装置中电浆密度相对于长槽纵长之图;第三十五图为对应于第二十三图,第二十七图及第三十一图之横剖面图,显示根据本发明之第十一较佳具体例之电浆处理装置;第三十六图为对应于第二十三图,第二十七图,第三十一图及第三十五图之横剖面图,显示根据本发明之第十二较佳具体例之电浆处理装置;第三十七图为沿第三十六图线T-T'所取横剖面图;第三十八图为显示于第三十六图之电浆处理装置中电浆密度相对于长槽纵长之图;第三十九图为显示于第三十六图之电浆处理装置中电浆密度相对于长槽纵长之图;第四十图为平面图显示先前技术电浆处理装置之概略构造;第四十一图为沿第四十图线I-I'所取横剖面图;第四十二图为沿第四十图线T3-T3'所取横剖面图;第四十三图为显示于第四十图之电浆处理装置中微波电场强度相对于各长槽纵长之图。 |
