发明名称 | 轴瓦减摩层真空镀膜机 | ||
摘要 | 本实用新型公开了一种轴瓦减摩层真空镀膜机的结构:在扁圆形真空室内安有旋转磁控靶,其外圈是靶材料;真空室内还装有主、从动轮,其上支撑着传动链,轴瓦架紧固在传动链上;等离子体处理电极安装在从动轮的中心;真空规管装在真空室顶上,进气管从真空室顶部伸入其内,用本实用新型镀覆的轴瓦减摩层,膜层致密、无杂质,与基底结合力强,耐疲劳强度等级更高,完全克服了电镀时形成的恶劣的工作环境及对环境的污染。 | ||
申请公布号 | CN2317235Y | 申请公布日期 | 1999.05.05 |
申请号 | CN97247491.9 | 申请日期 | 1997.10.11 |
申请人 | 中国科学院等离子体物理研究所 | 发明人 | 史义才 |
分类号 | C23C14/35 | 主分类号 | C23C14/35 |
代理机构 | 中国科学院合肥专利事务所 | 代理人 | 周国城 |
主权项 | 1.一种轴瓦减摩层真空镀膜机,其特征是,在扁园形的真空室(1)的室壁(14)处,装有法兰(16),在法兰(16)上装有密封圈(15);在真空室(1)内的长对称轴位置上,安有2~5个旋转磁控靶(7),磁控靶(7)的外圈是靶材料(8);主动轮(2)、从动轮(9)安装在长轴位置两端的对称处,其上支撑着传动链(3),轴瓦架(4)紧固在传动链(3)上;每个轴瓦架(4)上都装有压板(12);等离子体处理电极(10)安装在从动轮(9)的中心位置,通过密封结构和绝缘体(11)固定在真空室(1)的后门上,不接触从动轮(9);真空规管(6)装在真空室(1)的顶上;进气管(5)从真空室(1)的顶部伸入真空室(1)内,其出气口装在磁控靶(7)的正上方,且进气管(5)的出气口与磁控靶(7)的数目一致;在真空室(1)的下方开有抽气口(13)。 | ||
地址 | 230031安徽省合肥市1126信箱 |