| 主权项 |
1.一种投影曝光装置,系具备:曝光用照明系,将形成有既定图形之原版藉由曝光光以照明之;及投影光学系,将被该曝光用照明系照明后之前述原版上的图形像形成在感光性基板上;以将前述原版上的图形曝光于前述感光性基板上;其特征在于,系具备:基板台,用以将前述感光性基板载置同时沿着前述投影光学系的像面移动;设在前述基板台上之基准标记;第1位置检出系,用以将前述感光性基板之位置检出,同时将其相对前述基准标记之位置检出;第2位置检出系,用以将前述基准标记和前述原版之相对位置检出;固定标记,为了图形之投影而固设在前述原版所载置的位置和前述投影光学系之间;第3位置检出系,用以将前述基准标记和前述固定标记之相对位置检出;以及信号补正系,基于前述第3位置检出系所得之有关前述基准标记和前述固定标记之相对位置的资料,将第1基准标记检出信号和第2基准标记检出信号中之至少1者补正之;第1基准标记检出信号系前述第1位置检出系所输出之有关基准标记和感光性基板的相对位置者,第2基准标记检出信号系前述第2位置检出系所输出之有关基准标记和原版的相对位置者。2.如申请专利范围第1项所述之投影曝光装置,其中,再设置原版交换装置,以将复数的前述原版依序设定在前述投影光学系之物体面;前述信号补正系,在每回介由前述原版交换装置以将前述复数的原版依序设定时,基于前述第3位置检出系所得之有关前述基准标记和前述固定标记之相对位置的资料以算出补正量,基于该补正量以将前述第2位置检出系中各原版所得之第2基准标记输出信号和第1位置检出系中所得之第1基准标记输出信号中之至少1者补正之。3.如申请专利范围第2项所述之投影曝光装置,其中,前述基准标记,系可从投影光学系之像面退避而收纳在前述基板台内部。4.如申请专利范围第3项所述之投影曝光装置,其中,前述第3位置检出系系具有和前述第2位置检出系共用之前述基准标记照明系;该基准标记照明系,在前述第2位置检出系中将前述基准标记和前述原版之相对位置检出时,系使用具曝光波长之光以将形成于前述原版上之原版标记介由投影光学系照明之;在前述第3位置检出系中将前述基准标记和前述固定标记之相对位置检出时,系使用具曝光波长之光以将前述固定标记介由投影光学系照明之。5.如申请专利范围第4项所述之投影曝光装置,其中,前述第3位置检出系,系在和前述第2位置检出系共用之曝光用照明系内部设置光电检出器;前述光电检出器,系将来自介由前述投影光学系而形成在固定标记上之基准标记的像和固定标记之光,介由前述曝光用照明系的1部分以受光之。6.如申请专利范围第3项所述之投影曝光装置,其中,前述曝光用照明系,系将形成于前述原版上之原版标记、和介由投影光学系之基准标记照明之,并将固定标记、和介由投影光学系之基准标记照明之;前述第3位置检出系,系具有和前述第2位置检出系共用之光电检出器;前述光电检出器,在前述第2位置检出系中将基准标记和原版的相对位置检出时,系将来自介由前述投影光学系而形成在基准标记上之原版标记的像和基准标记之光受光之;在前述第3位置检出系中将基准标记和固定标记的相对位置检出时,系将来自介由前述投影光学系而形成在基准标记上之固定标记的像和基准标记之光受光之。7.如申请专利范围第3项所述之投影曝光装置,其中,前述曝光用照明系,系将形成于前述原版上之原版标记、和介由投影光学系之基准标记照明之;前述第3位置检出系,系具有固定标记照明系,以将前述固定标记、和介由投影光学系之基准标记照明之;前述第3位置检出系,系具有和前述第2位置检出系共用之光电检出器;前述光电检出器,在前述第2位置检出系中将基准标记和原版的相对位置检出时,系将来自介由前述投影光学系而形成在基准标记上之原版标记的像和基准标记之光受光之;在前述第3位置检出系中将基准标记和固定标记的相对位置检出时,系将来自介由前述投影光学系而形成在基准标记上之固定标记的像和基准标记之光受光之。8.如申请专利范围第6项所述之投影曝光装置,其中,前述第3位置检出系,系在前述基准标记和前述光电检出器之间配置和第2位置检出系共用之光导元件。9.如申请专利范围第7项所述之投影曝光装置,其中,前述光导元件,系具有扩大光学系,以将介由前述投影光学系而形成在基准标记上之固定标记的像和基准标记的各扩大像形成在光电检出器之受光面上。10.如申请专利范围第9项所述之投影曝光装置,其中,前述第3位置检出系,系在前述基准标记和光电检出器之间配置和第2位置检出系共用之光导元件。11.如申请专利范围第10项所述之投影曝光装置,其中,前述光导元件,系具有扩大光学系,以将介由前述投影光学系而形成在基准标记上之固定标记的像和基准标记的各扩大像形成在光电检出器之受光面上。12.如申请专利范围第2项所述之投影曝光装置,其中,前述第3位置检出系系具有和前述第2位置检出系共用之前述基准标记照明系;该基准标记照明系,在前述第2位置检出系中将基准标记和原版之相对位置检出时,系使用具曝光波长之光以将形成于前述原版上之原版标记介由投影光学系照明之;在前述第3位置检出系中将基准标记和固定标记之相对位置检出时,系使用具曝光波长之光以将前述固定标记介由投影光学系照明之。13.如申请专利范围第12项所述之投影曝光装置,其中,前述第3位置检出系,系在和前述第2位置检出系共用之曝光用照明系内部设置光电检出器;前述光电检出器,系将来自介由前述投影光学系而形成在固定标记上之基准标记的像和固定标记之光,介由前述曝光用照明系的1部分以受光之。14.如申请专利范围第2项所述之投影曝光装置,其中,前述曝光用照明系,系将形成于前述原版上之原版标记、和介由投影光学系之基准标记照明之,并将前述固定标记、和介由投影光学系之基准标记照明之;前述第3位置检出系,系具有和前述第2位置检出系共用之光电检出器;前述光电检出器,在前述第2位置检出系中将基准标记和原版的相对位置检出时,系将来自介由前述投影光学系而形成在基准标记上之原版标记的像和基准标记之光受光之;在前述第3位置检出系中将基准标记和固定标记的相对位置检出时,系将来自介由前述投影光学系而形成在基准标记上之固定标记的像和基准标记之光受光之。15.如申请专利范围第2项所述之投影曝光装置,其中,前述曝光用照明系,系将形成于前述原版上之原版标记、和介由投影光学系之基准标记照明之;前述第3位置检出系,系具有固定标记照明系,以将前述固定标记、和介由投影光学系之基准标记照明之;前述第3位置检出系,系具有和前述第2位置检出系共用之光电检出器;前述光电检出器,在前述第2位置检出系中将基准标记和原版的相对位置检出时,系将来自介由前述投影光学系而形成在基准标记上之原版标记的像和基准标记之光受光之;在前述第3位置检出系中将基准标记和固定标记的相对位置检出时,系将来自介由前述投影光学系而形成在基准标记上之固定标记的像和基准标记之光受光之。16.如申请专利范围第1项所述之投影曝光装置,其中,前述基准标记,系可从投影光学系之像面退避而收纳在基板台内部。17.如申请专利范围第16项所述之投影曝光装置,其中,前述第3位置检出系系具有和前述第2位置检出系共用之基准标记照明系;该基准标记照明系,在前述第2位置检出系中将基准标记和原版之相对位置检出时,系使用具曝光波长之光以将形成于原版上之原版标记介由前述投影光学系照明之;在前述第3位置检出系中将基准标记和固定标记之相对位置检出时,系使用具曝光波长之光以将固定标记介由投影光学系照明之。18.如申请专利范围第17项所述之投影曝光装置,其中,前述第3位置检出系,系在和前述第2位置检出系共用之曝光用照明系内部设置光电检出器;前述光电检出器,系将来自介由前述投影光学系而形成在固定标记上之基准标记的像和固定标记之光,介由曝光用照明系的1部分以受光之。19.如申请专利范围第16项所述之投影曝光装置,其中,前述曝光用照明系,系将形成于前述原版上之原版标记、和介由投影光学系之基准标记照明之,并将前述固定标记、和介由投影光学系之基准标记照明之;前述第3位置检出系,系具有和前述第2位置检出系共用之光电检出器;前述光电检出器,在前述第2位置检出系中将基准标记和原版的相对位置检出时,系将来自介由前述投影光学系而形成在基准标记上之原版标记的像和基准标记之光受光之;在前述第3位置检出系中将基准标记和固定标记的相对位置检出时,系将来自介由前述投影光学系而形成在基准标记上之固定标记的像和基准标记之光受光之。20.如申请专利范围第16项所述之投影曝光装置,其中,前述曝光用照明系,系将形成于前述原版上之原版标记、和介由投影光学系之基准标记照明之;前述第3位置检出系,系具有固定标记照明系,以将前述固定标记、和介由投影光学系之基准标记照明之;前述第3位置检出系,系具有和前述第2位置检出系共用之光电检出器;前述光电检出器,在前述第2位置检出系中将基准标记和原版的相对位置检出时,系将来自介由投影光学系而形成在基准标记上之原版标记的像和基准标记之光受光之;在前述第3位置检出系中将基准标记和固定标记的相对位置检出时,系将来自介由投影光学系而形成在基准标记上之固定标记的像和基准标记之光受光之。21.如申请专利范围第1项所述之投影曝光装置,其中,前述第3位置检出系系具有和前述第2位置检出系共用之前述基准标记照明系;该基准标记照明系,在前述第2位置检出系中将基准标记和原版之相对位置检出时,系使用具曝光波长之光以将形成于前述原版上之原版标记介由投影光学系照明之;在前述第3位置检出系中将基准标记和固定标记之相对位置检出时,系使用具曝光波长之光以将前述固定标记介由投影光学系照明之。22.如申请专利范围第21项所述之投影曝光装置,其中,前述第3位置检出系,系在和前述第2位置检出系共用之曝光用照明系内部设置光电检出器;前述光电检出器,系将来自介由前述投影光学系而形成在固定标记上之基准标记的像和固定标记之光,介由曝光用照明系的1部分以受光之。23.如申请专利范围第1项所述之投影曝光装置,其中,前述曝光用照明系,系将形成于原版上之原版标记、和介由投影光学系之基准标记照明之,并将固定标记、和介由投影光学系之基准标记照明之;前述第3位置检出系,系具有和前述第2位置检出系共用之光电检出器;前述光电检出器,在前述第2位置检出系中将基准标记和原版的相对位置检出时,系将来自介由投影光学系而形成在基准标记上之原版标记的像和基准标记之光受光之;在前述第3位置检出系中将基准标记和固定标记的相对位置检出时,系将来自介由投影光学系而形成在基准标记上之固定标记的像和基准标记之光受光之。24.如申请专利范围第1项所述之投影曝光装置,其中,前述曝光用照明系,系将形成于原版上之原版标记、和介由投影光学系之基准标记照明之;前述第3位置检出系,系具有固定标记照明系,以将前述固定标记、和介由投影光学系之基准标记照明之;前述第3位置检出系,系具有和前述第2位置检出系共用之光电检出器;前述光电检出器,在前述第2位置检出系中将基准标记和原版的相对位置检出时,系将来自介由投影光学系而形成在基准标记上之原版标记的像和基准标记之光受光之;在前述第3位置检出系中将基准标记和固定标记的相对位置检出时,系将来自介由投影光学系而形成在基准标记上之固定标记的像和基准标记之光受光之。25.一种液晶显示装置之制造方法,系具备曝光步骤,使用如申请专利范围第1-第24项中之任一项所述之投影曝光装置,以将前述原版上的图形介由投影光学系曝光在感光性基板上。26.一种曝光装置,系具备:曝光用照明系,将形成有既定曝光用图形之原版藉由曝光光以照明之;及投影光学系,将被该曝光用照明系照明后之前述原版上的曝光用图形的像形成在感光性基板上;以将前述原版上的曝光用图形曝光于感光性基板上;其特征在于,系具备:基板台,用以将前述感光性基板载置同时沿着投影光学系的像面移动;设在前述基板台上之基准标记;第1位置检出系,用以将前述感光性基板之位置检出,同时将其相对基准标记之位置检出;第2位置检出系,用以通过前述投影光学系、并介由形成在基准标记和原版间之检出光路,以将基准标记和原版上所形成之原版标记之相对位置光学地检出;固定标记,为了图形之投影而固设在前述原版所载置的位置和投影光学系之间;第3位置检出系,用以通过前述投影光学系、并介由形成在基准标记和固定标记间之检出光路,以将基准标记和固定标记之相对位置光学地检出;信号补正系,基于前述第3位置检出系所得之有关基准标记和固定标记之相对位置的资料,将第1基准标记检出信号和第2基准标记检出信号中之至少1者补正之,第1基准标记检出信号系前述第1位置检出系所输出之有关基准标记和感光性基板的相对位置者,第2基准标记检出信号系前述第2位置检出系所输出之有关基准标记和原版的相对位置者;平行平面板,设在前述原版所载置的位置和投影光学系间之曝光光路中,或设在前述投影光学系和基板台间之曝光光路中;以及光学元件,系具有设于前述原版所载置的位置和投影光学系间的曝光光路外之光路分割面或光路合成面的境界面;前述光学元件,在境界面和基准标记间系形成第2位置检出系的检出光路和第3位置检出系的检出光路共用之检出光路,在境界面和原版标记间系形成第2位置检出系之专用检出光路,在境界面和固定标记间系形成第3位置检出系之专用检出光路;前述光学元件和投影光学系之合成系,系将原版标记和基准标记光学地共轭,并将固定标记和基准标记光学地共轭;前述平行平面板和投影光学系之合成系,系将原版的曝光用图形区域和感光性基板的曝光面光学地共轭。27.如申请专利范围第26项所述之曝光装置,其中,前述基准标记,系设定在和被保持在前述基板台上的感光性基板之曝光面大致相同高度的位置;前述第2位置检出系,系使用具曝光波长的光以将前述基准标记和形成在原版上之原版标记的相对位置检出;前述第3位置检出系,系使用具曝光波长的光以将前述基准标记和固定标记的相对位置检出。28.如申请专利范围第27项所述之曝光装置,其中,前述第2位置检出系和第3位置检出系,系形成大致可同时将各相对位置检出。29.如申请专利范围第28项所述之曝光装置,其中,前述第3位置检出系,系具有和第2位置检出系共用之基准标记照明系;该基准标记系,在前述第2位置检出系中将基准标记和原版之相对位置检出时,系使用具曝光波长之光以将形成于原版上之原版标记介由投影光学系和光学元件照明之;在前述第3位置检出系中将基准标记和固定标记之相对位置检出时,系使用具曝光波长之光以将前述固定标记介由投影光学系和光学元件照明之。30.如申请专利范围第29项所述之曝光装置,其中,前述第3位置检出系,系在和第2位置检出系共用之曝光用照明系内部设置光电检出器;该光电检出器,系将来自介由前述投影光学系和光学元件而形成在固定标记上之基准标记的像和固定标记之光,介由曝光用照明系的1部分以受光之。31.如申请专利范围第28项所述之曝光装置,其中,前述曝光用照明系,系将形成于原版上之原版标记、和介由投影光学系之基准标记照明之,并将固定标记、和介由投影光学系和光学元件之基准标记照明之;前述第3位置检出系,系具有和前述第2位置检出系共用之光电检出器;前述光电检出器,在前述第2位置检出系中将基准标记和原版的相对位置检出时,系将来自介由投影光学系和光学元件而形成在基准标记上之原版标记的像和基准标记之光受光之;在前述第3位置检出系中将基准标记和固定标记的相对位置检出时,系将来自介由投影光学系和光学元件而形成在基准标记上之固定标记的像和基准标记之光受光之。32.如申请专利范围第31项所述之曝光装置,其中,前述第3位置检出系,系在前述基准标记和光电检出器之间配置和第2位置检出系共用之光导元件。33.如申请专利范围第32项所述之曝光装置,其中,前述光导元件,系具有扩大光学系,以将介由前述投影光学系和光学元件而形成在基准标记上之固定标记的像和基准标记的各扩大像形成在光电检出器之受光面上。34.如申请专利范围第28项所述之曝光装置,其中,前述曝光用照明系,系将形成于前述原版上之原版标记、和介由投影光学系和光学元件之基准标记照明之;前述第3位置检出系,系具有固定标记照明系,以将前述固定标记、和介由投影光学系和光学元件之基准标记照明之;前述第3位置检出系,系具有和前述第2位置检出系共用之光电检出器;前述光电检出器,在前述第2位置检出系中将基准标记和原版的相对位置检出时,系将来自介由投影光学系和光学元件而形成在基准标记上之原版标记的像和基准标记之光受光之;在前述第3位置检出系中将基准标记和固定标记的相对位置检出时,系将来自介由投影光学系和光学元件而形成在基准标记上之固定标记的像和基准标记之光受光之。35.如申请专利范围第34项所述之曝光装置,其中,前述第3位置检出系,系在前述基准标记和光电检出器之间配置和第2位置检出系共用之光导元件。36.如申请专利范围第35项所述之曝光装置,其中,前述光导元件,系具有扩大光学系,以将介由前述投影光学系和光学元件而形成在基准标记上之固定标记的像和基准标记的各扩大像形成在光电检出器之受光面上。37.如申请专利范围第27项所述之曝光装置,其中,其中,前述第3位置检出系,系具有和第2位置检出系共用之基准标记照明系;该基准标记系,在前述第2位置检出系中将基准标记和原版之相对位置检出时,系使用具曝光波长之光以将形成于原版上之原版标记介由投影光学系和光学元件照明之;在前述第3位置检出系中将基准标记和固定标记之相对位置检出时,系使用具曝光波长之光以将固定标记介由投影光学系和光学元件照明之。38.如申请专利范围第37项所述之曝光装置,其中,前述第3位置检出系,系在和第2位置检出系共用之曝光用照明系内部设置光电检出器;该光电检出器,系将来自介由前述投影光学系和光学元件而形成在固定标记上之基准标记的像和固定标记之光,介由曝光用照明系的1部分以受光之。39.如申请专利范围第27项所述之曝光装置,其中,前述曝光用照明系,系将形成于前述原版上之原版标记、和介由投影光学系之基准标记照明之,并将固定标记、和介由投影光学系和光学元件之基准标记照明之;前述第3位置检出系,系具有和前述第2位置检出系共用之光电检出器;前述光电检出器,在前述第2位置检出系中将基准标记和原版的相对位置检出时,系将来自介由投影光学系和光学元件而形成在前述基准标记上之原版标记的像和基准标记之光受光之;在前述第3位置检出系中将基准标记和固定标记的相对位置检出时,系将来自介由投影光学系和光学元件而形成在基准标记上之固定标记的像和基准标记之光受光之。40.如申请专利范围第27项所述之曝光装置,其中,前述曝光用照明系,系将形成于前述原版上之原版标记、和介由投影光学系和光学元件之基准标记照明之;前述第3位置检出系,系具有固定标记照明系,以将前述固定标记、和介由投影光学系和光学元件之基准标记照明之;前述第3位置检出系,系具有和前述第2位置检出系共用之光电检出器;前述光电检出器,在前述第2位置检出系中将基准标记和原版的相对位置检出时,系将来自介由投影光学系和光学元件而形成在基准标记上之原版标记的像和基准标记之光受光之;在前述第3位置检出系中将基准标记和固定标记的相对位置检出时,系将来自介由投影光学系和光学元件而形成在基准标记上之固定标记的像和基准标记之光受光之。41.如申请专利范围第26项所述之曝光装置,其中,前述第2位置检出系和第3位置检出系,系形成大致可同时将各相对位置检出。42.如申请专利范围第41项所述之曝光装置,其中,前述第3位置检出系,系具有和第2位置检出系共用之基准标记照明系;该基准标记系,在前述第2位置检出系中将基准标记和原版之相对位置检出时,系使用具曝光波长之光以将形成于原版上之原版标记介由投影光学系和光学元件照明之;在前述第3位置检出系中将基准标记和固定标记之相对位置检出时,系使用具曝光波长之光以将固定标记介由投影光学系和光学元件照明之。43.如申请专利范围第42项所述之曝光装置,其中,前述第3位置检出系,系在和第2位置检出系共用之曝光用照明系内部设置光电检出器;该光电检出器,系将来自介由前述投影光学系和光学元件而形成在固定标记上之基准标记的像和固定标记之光,介由曝光用照明系的1部分以受光之。44.如申请专利范围第41项所述之曝光装置,其中,前述曝光用照明系,系将形成于前述原版上之原版标记、和介由投影光学系之基准标记照明之,并将固定标记、和介由投影光学系和光学元件之基准标记照明之;前述第3位置检出系,系具有和前述第2位置检出系共用之光电检出器;前述光电检出器,在前述第2位置检出系中将基准标记和原版的相对位置检出时,系将来自介由投影光学系和光学元件而形成在基准标记上之原版标记的像和基准标记之光受光之;在前述第3位置检出系中将基准标记和固定标记的相对位置检出时,系将来自介由投影光学系和光学元件而形成在基准标记上之固定标记的像和基准标记之光受光之。45.如申请专利范围第41项所述之曝光装置,其中,前述曝光用照明系,系将形成于前述原版上之原版标记、和介由投影光学系和光学元件之基准标记照明之;前述第3位置检出系,系具有固定标记照明系,以将前述固定标记、和介由投影光学系和光学元件之基准标记照明之;前述第3位置检出系,系具有和前述第2位置检出系共用之光电检出器;前述光电检出器,在前述第2位置检出系中将基准标记和原版的相对位置检出时,系将来自介由投影光学系和光学元件而形成在基准标记上之原版标记的像和基准标记之光受光之;在前述第3位置检出系中将基准标记和固定标记的相对位置检出时,系将来自介由投影光学系和光学元件而形成在基准标记上之固定标记的像和基准标记之光受光之。46.如申请专利范围第26项所述之曝光装置,其中,前述第3位置检出系,系具有和第2位置检出系共用之基准标记照明系;该基准标记系,在前述第2位置检出系中将基准标记和原版之相对位置检出时,系使用具曝光波长之光以将形成于原版上之原版标记介由投影光学系和光学元件照明之;在前述第3位置检出系中将基准标记和固定标记之相对位置检出时,系使用具曝光波长之光以将固定标记介由投影光学系和光学元件照明之。47.如申请专利范围第46项所述之曝光装置,其中,前述第3位置检出系,系在和第2位置检出系共用之曝光用照明系内部设置光电检出器;该光电检出器,系将来自介由前述投影光学系和光学元件而形成在固定标记上之基准标记的像和固定标记之光,介由曝光用照明系的1部分以受光之。48.如申请专利范围第26项所述之曝光装置,其中,前述曝光用照明系,系将形成于前述原版上之原版标记、和介由投影光学系之基准标记照明之,并将固定标记、和介由投影光学系和光学元件之基准标记照明之;前述第3位置检出系,系具有和前述第2位置检出系共用之光电检出器;前述光电检出器,在前述第2位置检出系中将基准标记和原版的相对位置检出时,系将来自介由投影光学系和光学元件而形成在基准标记上之原版标记的像和基准标记之光受光之;在前述第3位置检出系中将基准标记和固定标记的相对位置检出时,系将来自介由投影光学系和光学元件而形成在基准标记上之固定标记的像和基准标记之光受光之。49.如申请专利范围第26项所述之曝光装置,其中,前述曝光用照明系,系将形成于前述原版上之原版标记、和介由投影光学系和光学元件之基准标记照明之;前述第3位置检出系,系具有固定标记照明系,以将前述固定标记、和介由投影光学系和光学元件之基准标记照明之;前述第3位置检出系,系具有和前述第2位置检出系共用之光电检出器;前述光电检出器,在前述第2位置检出系中将基准标记和原版的相对位置检出时,系将来自介由投影光学系和光学元件而形成在基准标记上之原版标记的像和基准标记之光受光之;在前述第3位置检出系中将基准标记和固定标记的相对位置检出时,系将来自介由投影光学系和光学元件而形成在基准标记上之固定标记的像和基准标记之光受光之。50.一种液晶显示装置之制造方法,系具备曝光步骤,使用如申请专利范围第26-第49项中之任一项所述之曝光装置,以将前述原版上的图形介由投影光学系曝光在感光性基板上。图式简单说明:第一图系概略地显示依本发明的第1曝光装置之立体图。第二图系概略地显示依本发明的第1曝光装置之第1实施形态之构造图。第三图(a)-第三图(b)系显示依本发明的第1曝光装置中所用之固定标记的例。第四图系显示依本发明的第1曝光装置中所用之标线板的窗之样子。第五图(a)系显示依本发明的第1曝光装置所用之基准标记的图形和固定标记的图形之例。第五图(b)系显示将第五图(a)所示之各标记扫瞄时受光元件所检出之信号的例。第六图系显示依本发明的第1曝光装置中,对应各标线板之偏移量的样子。第七图系概略地显示依本发明的第1曝光装置之第1实施形态之构造图。第八图系显示第七图的实施形态之变形例。第九图(a)系显示依本发明的第1曝光装置所用之基准标记的图形之例。第九图(b)系显示依本发明的第1曝光装置所用之固定标记的图形及标线板标记的图形之例。第九图(c)系显示将第九图(a)所示之标记的图形和第九图(b)所示之标记的图形重叠时之合成像。第十图(a)-第十图(c)系显示第九图所示的图形之合成像和将其画像处理的场合之样子。第十一图系显示第七图所示的实施形态之其他变形例。第十二图系显示第七图所示的实施形态之再其他变形例。第十三图系显示将本发明的第1曝光装置所用之固定标记形成在一体的框上之例。第十四图系概略地显示依本发明的第2曝光装置之立体图。第十五图系概略地显示依本发明的第2曝光装置之第1实施形态的构造图。第十六图系显示依本发明的第2曝光装置所用之标线板的窗之样子。第十七图(a)系显示依本发明之第1曝光装置所用之基准标记的图形和固定标记的图形之例。第十七图(b)系显示将第五图(a)所示之各标记扫瞄时受光元件所检出之信号的例。第十八图系显示将第十五图所示之标线板和投影光学系的一部分扩大时的样子之例。第十九图系显示依本发明的第2曝光装置中,对应各标线板之偏移量的样子。第二十图系概略地显示依本发明的第2曝光装置之第2实施形态之构造图。第二十一图系概略地显示依本发明的第2曝光装置之第3实施形态之构造图。第二十二图系概略地显示依本发明的第2曝光装置之第4实施形态之构造图。第二十三图系显示依本发明的第2曝光装置之第4实施形态的变形例。第二十四图系显示依本发明的第2曝光装置之第4实施形态之其他变形例。第二十五图系概略地显示依本发明的第2曝光装置之第5实施形态之构造图。 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