| 发明名称 | 用于生成光盘的母盘的制作方法 | ||
| 摘要 | 一种生产母盘的方法,包括下列步骤:在一衬底上镀第一光敏电阻层;根据分别对应于槽和槽脊的一槽形凹口和一槽脊形凸起的图形使第一光敏电阻层曝光;蚀刻衬底和第一光敏电阻层,从而在衬底上形成槽形凹口和槽脊形凸起;在衬底上镀第二光敏电阻层,从而形成槽和槽脊;根据记录预定信息的凹坑图形对第二光敏电阻层曝光;并蚀刻第二光敏电阻层,从而在槽和槽脊上形成凹坑。 | ||
| 申请公布号 | CN1211786A | 申请公布日期 | 1999.03.24 |
| 申请号 | CN98105526.5 | 申请日期 | 1998.03.12 |
| 申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 卢明道;尹斗燮;郑承台 |
| 分类号 | G11B7/00 | 主分类号 | G11B7/00 |
| 代理机构 | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人 | 黄小临 |
| 主权项 | 1．一种制作母盘的方法，包括下列步骤：在一衬底上镀第一光敏电阻层；根据分别对应于槽和槽脊的一槽形凹口和一槽脊形凸起的图形使第一光敏电阻层曝光；对衬底和第一光敏电阻层进行蚀刻，从而在衬底上形成槽形凹口和槽脊形凸起；在衬底上镀第二光敏电阻层，从而形成槽和槽脊；根据其中记录有预定信息的凹坑的图形，使第二光敏电阻层曝光；和对第二光敏电阻层进行蚀刻，从而在槽和槽脊上形成凹坑。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||