| 发明名称 |
Substrate media for plasma gas processing reactors |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2329130(A) |
申请公布日期 |
1999.03.17 |
| 申请号 |
GB19980017782 |
申请日期 |
1998.08.17 |
| 申请人 |
* AEA TECHNOLOGY PLC |
发明人 |
DAVID LESLIE * SEGAL;JAMES TIMOTHY * SHAWCROSS |
| 分类号 |
B01D53/32;B01J8/02;B01J19/08;F01N3/08;(IPC1-7):B01D53/32 |
主分类号 |
B01D53/32 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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