| 发明名称 |
ETCHING SOLUTION FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND ETCHING |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH1167742(A) |
申请公布日期 |
1999.03.09 |
| 申请号 |
JP19970228426 |
申请日期 |
1997.08.25 |
| 申请人 |
SUMITOMO METAL IND LTD |
发明人 |
ASAYAMA HIDEKAZU;NOMACHI TAKESHI;HORAI MASATAKA |
| 分类号 |
H01L21/66;H01L21/304;H01L21/308;(IPC1-7):H01L21/308 |
主分类号 |
H01L21/66 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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