| 发明名称 |
METHOD OF DEVELOPMENT IN PHOTOLITHOGRAPHIC PROCESS |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH1154427(A) |
申请公布日期 |
1999.02.26 |
| 申请号 |
JP19970222069 |
申请日期 |
1997.08.05 |
| 申请人 |
NITTETSU SEMICONDUCTOR KK |
发明人 |
TAKI MASUYUKI |
| 分类号 |
G03F7/30;H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/30 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
