| 发明名称 | 制备旋光性氰醇的方法 | ||
| 摘要 | 下面通式(1)所示的旋光性氰醇,其中R1和R2各自是氢原子或氨基保护基团,且*2位*3位碳原子的构型如下:当*2位的碳原子为R构型时,*3位碳原子为S构型,而当*2位碳原子为S构型时,*3位碳原子为R构型,通过将其中一种旋光性氰醇结晶,同时在胺和有机溶剂存在下,对氰醇非对映异构体处理来改变2位碳原子的构型,引起异构化反应的方法来高效制备式(1)氰醇。 | ||
| 申请公布号 | CN1205003A | 申请公布日期 | 1999.01.13 |
| 申请号 | CN97191386.2 | 申请日期 | 1997.02.07 |
| 申请人 | 日本化药株式会社 | 发明人 | 宫泽嘉延;腰越太一;大川幸一;关根丈司;佐伯真一郎 |
| 分类号 | C07C255/43;C07C253/34;//C07M7:00 | 主分类号 | C07C255/43 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 孙爱 |
| 主权项 | 1．一种制备下列通式(1)所示的旋光性氰醇的方法：其中R1和R2各自是氢原子或氨基保护基团，且*2位和*3位碳原子的构型如下：当*2位的碳原子为R构型时，*3位碳原子为S构型，而当*2位碳原子为S构型时，*3位碳原子为R构型，该方法包括在胺和有机溶剂存在下，对N-(被保护)-3-氨基-2-羟基-4-苯基丁腈的非对映异构体进行处理。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||