发明名称 |
通过螯合型离子交换树脂降低光刻胶组合物中的金属离子 |
摘要 |
本发明提供使用处理的螯合型离子交换树脂以制得中性铵盐或酸性形式,从而制备具有很低含量金属离子的光刻胶的方法。也提供使用这些光刻胶组合物制造半导体元件的方法。 |
申请公布号 |
CN1202913A |
申请公布日期 |
1998.12.23 |
申请号 |
CN96198607.7 |
申请日期 |
1996.11.21 |
申请人 |
克拉里安特国际有限公司 |
发明人 |
M·D·拉曼;D·P·奥宾 |
分类号 |
C08G8/00;G03F7/032 |
主分类号 |
C08G8/00 |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
吴亦华 |
主权项 |
1.制备具有很低金属离子含量的光刻胶组合物的方法a)1)用去离子水清洗螯合型离子交换树脂的过程,接着用无机酸溶液清洗,再次用去离子水清洗,从而离子交换树脂中的钠和铁离子的含量降低到小于100ppb;或2)用去离子水清洗螯合型离子交换树脂,接着用无机酸溶液清洗,再次用去离子水清洗,接着用氢氧化铵溶液清洗,从而将螯合型离子交换树脂转变为铵盐,接着再用去离子水清洗,从而离子交换树脂中的钠和铁离子的含量降低到各小于100ppb;b)从1)或2)的离子交换树脂中除去水,接着用可与待提纯的光刻胶组合物中的溶剂混溶的光刻胶溶剂清洗;c)将光刻胶组合物与螯合型离子交换树脂的铵盐或螯合的离子交换树脂的酸性形式混合,并在30-90℃加热1-80小时,接着经过0.05-0.5μm(微米)的过滤器过滤,于是光刻胶组合物中的钠和铁离子的含量降低到各小于100ppb。 |
地址 |
瑞士穆坦兹 |