| 发明名称 |
METHOD FOR CLEANING SEMICONDUCTOR EQUIPMENT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH10335318(A) |
申请公布日期 |
1998.12.18 |
| 申请号 |
JP19970140072 |
申请日期 |
1997.05.29 |
| 申请人 |
TOSHIBA CORP |
发明人 |
EGUCHI KAZUHIRO;KIYOTOSHI MASAHIRO;TSUNASHIMA YOSHITAKA;OKUMURA KATSUYA |
| 分类号 |
C23C16/44;C23F4/00;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/31;(IPC1-7):H01L21/31;H01L21/306 |
主分类号 |
C23C16/44 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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