发明名称 ALUMINUM DEPOSITION SHIELD
摘要 <p>An aluminum deposition shield substantially improves transfer of radiated heat from within the vacuum chamber, in comparison to a stainless steel deposition shield. The aluminum deposition shield remains cooler during wafer processing and assists in cooling the chamber components.</p>
申请公布号 WO1998053486(A2) 申请公布日期 1998.11.26
申请号 US1998010223 申请日期 1998.05.18
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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