| 发明名称 |
PLASMA CHEMICAL DEPOSITION SYSTEM |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH10312965(A) |
申请公布日期 |
1998.11.24 |
| 申请号 |
JP19970122245 |
申请日期 |
1997.05.13 |
| 申请人 |
MITSUBISHI HEAVY IND LTD |
发明人 |
MORITA SHOJI;AOI TATSUFUMI;UDA KAZUTAKA;MURATA MASAYOSHI;OSHIMA KAZUAKI |
| 分类号 |
H01L21/205;(IPC1-7):H01L21/205 |
主分类号 |
H01L21/205 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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