首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 ELECTRON-BEAM EXPOSURE MASK, ITS MANUFACTURE AND ELECTRON BEAM EXPOSURE METHOD
摘要
申请公布号 KR0153872(B1) 申请公布日期 1998.11.16
申请号 KR19950006437 申请日期 1995.03.25
申请人 FUJITSU LTD 发明人 YAMAZAKI, SATORU;SAKAMOTO, JUICHI;YASUDA, IROSHI;SAKAKI-BARA TAKAYUKI;SAGO, SATORU
分类号 C23F1/00;G03F1/20;G03F1/76;G03F1/78;H01L21/027;(IPC1-7):G03F1/08 主分类号 C23F1/00
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com