发明名称 防止电浆加强式化学气相沈积薄膜蚀刻室之阴极座在保养时受损的装置
摘要 一防止电浆加强式化学气相沈积薄膜蚀刻室(PECVD etch chamber)之阴极座在保养时受损的装置,其包括一可动式保护盖,用以在该蚀刻室做保养时,将该蚀刻室内之该阴极座盖住,以防止该阴极座在保养过程中被清洁液污染及被清洁工具刮伤。
申请公布号 TW345314 申请公布日期 1998.11.11
申请号 TW085213401 申请日期 1996.08.30
申请人 世界先进积体电路股份有限公司 发明人 林必窕
分类号 H01L21/3065 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人 詹铭文 台北巿罗斯福路二段一○○号七楼之一
主权项 1.一种防止电浆加强式化学气相沈积蚀刻室(PECVDetchchamber)之阴极座在保养时受损的装置,其包括一可动式保护盖,用以在该蚀刻室做保养时,将该蚀刻室内之该阴极座盖住,以防止该阴极座在保养过程中被清洁工具及清洁液污染及刮伤。2.如申请专利范围第1项所述的装置,其中该保护盖之形状系圆柱状。3.如申请专利范围第1项所述的装置,其中该保护盖之材料系压克力。4.如申请专利范围第1项所述的装置,其中该保护盖之材料系铁氟隆。5.一种防止P5000型电浆加强式化学气相沈积薄膜蚀刻室(PECVD etchchamber)之阴极座在保养时受损的装置,其包括一可动式保护盖,用以在该蚀刻室做保养时,将该蚀刻室内之该阴极座盖住,以防止该阴极座在保养过程中被清洁工具及被清洁液污染及刮伤。6.如申请专利范围第5项所述的装置,其中该保护盖之形状系圆柱状。7.如申请专利范围第5项所述的装置,其中该保护盖之材料系压克力。8.如申请专利范围第5项所述的装置,其中该保护盖之材料系铁氟隆。图式简单说明:第一图系P5000型电浆加强式化学气相沈积薄膜蚀刻室装置部份照片。第二图系本创作之立体图。
地址 新竹科学工业园区新竹县园区三路一二三号