发明名称 基板处理装置、基板搬运装置及基板搬运方法
摘要 本发明之基板处理装置系具备有:卡(式)匣载置台20,具有基板进出用之开口部43,而用以载置具有安装成可装卸于该开口部43之盖44的卡匣;处理部G1~G5,用以处理被收容于该卡匣载置台20之卡匣内之基板;搬运臂机构21,用于从卡匣载置台20之卡匣取出基板且搬运基板至处理部G1~G5,并送回处理后之基板至匣载置台20之卡匣者;隔离构件32、60、49,配设于该搬运臂机构21私卡匣载置台20之间,以令搬运臂机构21侧之环境可从卡匣载置台20侧之环境隔离;通道33a,被形成于隔离构件60而与卡匣载置台上之卡匣开口部43成相对向,用以通过由搬运臂机构21从卡匣载置台上之卡匣取出之基板,且用以通过送回至卡匣装置台上之基板所用者;卡匣移动机构80、82,对于该通道33a令卡匣载置台上之卡匣开口部42使之接近或远离用者;及卸盖机构47,用以从卡匣开口部43予以卸下盖44或装上盖44于卡匣开口部43用者。
申请公布号 TW344847 申请公布日期 1998.11.11
申请号 TW086111256 申请日期 1997.08.06
申请人 发明人
分类号 H01L21/00;H01L21/304 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人
主权项 1.一种基板处理装置,其特征为具备有: 卡(式)匣载置台,具有基板进出用之开口部,而用以 载置具有安装成可装卸于该开口部之盖的卡匣; 处理部,用以处理被收容于该卡匣载置台之卡匣内 之基板; 搬运臂机构,用于从卡匣载置台之卡匣取出基板且 搬运基板至处理部,并送回处理后之基板至卡匣载 置台之卡匣者; 隔离构件,配设于该搬运臂机构私卡匣载置台之间 ,以令搬运臂机构侧之环境可从卡匣载置台侧之环 境隔离; 通道,被形成于隔离构件而与卡匣载置台上之卡匣 开口部成相对向,用以通过由搬运臂机构从卡匣载 置台上之卡匣取出之基板,且用以通过送回至卡匣 载置台上卡匣之基板所用者; 卡匣移动机构,对于该通道令卡匣载置台上之卡匣 开口部使之接近或远离用者;及 卸盖机构,用以从卡匣开口部予以卸下盖或装上盖 于卡匣开口部用者。2.如申请专利范围第1项所述 之基板处理装置,其中更具备有,用以在通道内侦 测上述卡匣载置台上之卡匣开口部及盖之中之至 少一方用的侦测机构,及依据该侦测资讯来个别予 以控制上述卡匣移动机构及卸盖机构之动作的控 制器。3.如申请专利范围第2项所述之基板处理装 置,其中上述侦测机构具备有,侦测从卸下盖之卡 匣取出基板时之卡匣开口部之位置用的第1感测器 ,及侦测从卡匣要卸下盖时之盖之位置用之第2感 测器。4.如申请专利范围第1项所述之基板处理装 置,其中上述盖具有键(Key)孔,而上述卸盖机构具备 有:末载置卡匣于上述卡匣载置台上时,会闭塞上 述通道之开闭板(盖);被装配于该开开板,且插入于 上述盖之键孔而予以旋转时,可从卡匣释放盖并使 盖被固定于开闭板之键;使该键绕着轴周围旋转之 '旋转机构;连通于上述通道所配设之用以收容 从卡匣所卸下之盖用的盖收容部;及用以移动上述 开闭板于通道和盖收容部之间用的移动机构。5. 如申请专利范围第4项所述之基板处理装置,其中 上述盖收容部乃配设于上述通道之下方,而上述移 动机构则用以升降上述开闭板用者。6.一种基板 处理装置,其特征为具备有: 卡匣,形成有进出复数之基板用之开口部,并具备 要安装于该开口部成装卸自如之盖; 基板搬运机构,藉由开口部从卡匣实施基板之进出 ; 隔离构件,予以隔离卡匣侧之空间和基板搬运机构 侧之空间之同时,具备用以交接基板于两空间之间 用之交接窗;及 盖移送机构,藉该交接窗从卡匣开口部卸下盖,并 移送盖至基板搬运机构侧之空间下方用者。7.一 种基板处理装置,其特征为具备有: 卡匣,形成有进出复数之基板用之开口部,并具备 要安装于该开口部成装卸自如之盖; 卡匣载置台,用于载置该卡匣; 基板搬运机构,从被载置于该载置台之卡匣开口部 实施基板之进出用; 隔离构件,予以隔离卡匣侧之空间和基板搬运机构 侧之空间之同时,具备用以交接基板于两空间之间 用之交接窗; 盖收容部,为收容从卡匣所卸下之盖而形成于面临 基板搬运机构侧之空间的卡匣载置台侧部;及 蓄移送机构,藉交接窗从卡匣卸下盖,并移送盖至 基板搬运机构侧之空间以收容于盖收容部者。8. 一种基板处理装置,其特征为具备有: 卡匣,形成有进出复数之基板用之开口部,并具备 要安装于该开口部成装卸自如之盖; 基板搬运机构,配设于较卡匣之内压设定成更高压 之搬运室内且实施基板之进出用者; 隔离构件,予以隔离卡匣例之空间和基板搬运机构 侧之空间之同时,具备用以交接基板于两空间之间 用之交接窗;及 盖移送机构,藉交接窗从卡匣卸下盖,并移送盖至 基板搬运机构侧之空间下方用者。9.一种基板处 理装置,主要被配置于清洁室内,其特征为具备有: 卡匣,形成有进出复数之基板用之开口部,并具备 要安装于该开口部成装卸自如之盖; 基板搬运机构,被配置于较清洁室之内压设定成更 为高压之搬运室内,用以从卡匣实施基板之进出者 ; 隔离构件,予以隔离卡匣侧之空间和基板搬运机构 侧之空间之同时,具备用以交接基板于两空间之间 用之交接窗;及 盖移送机构,藉该交接窗从卡匣开口部卸下盖,并 移送盖至基板搬运机构侧之空间下方用者。10.一 种基板处理装置,其特征为具备有: 卡匣,形成有进出复数之基板用之开口部,并具备 要安装于该开口部成装卸自如之盖; 搬运室,以具有用以交接来自卡匣之基板用之第1 交接窗的隔离构件所被隔离; 基板搬运机构,配设于该搬运至内,藉第1交接窗来 实施从卡匣进出基板用; 卸盖机构,配设于搬运室内,藉第1交换窗从卡匣开 口部卸下盖并移送盖至基板搬运机构侧之空间下 方用;及 处理室,配置成与搬运室相邻接,具备用于在与搬 运室之间由基板搬运机构来交接基板所用之第2交 接窗,并处理藉该第2交接窗所搬入之基板者。11. 一种基板处理装置,其特征为具备有: 卡匣,形成有进出复数之基板用之开口部,并具备 要安装于该开口部成装卸自如之盖; 搬运室,被设定成较卡匣之内压更高之压力,具备 用以交接来自卡匣之基板的第1交接窗; 基板搬运机构,配设于该搬运至内,藉第1交接窗来 实施从卡匣进出基板用; 盖移送机构,以藉第1交接窗从卡匣卸下盖并移送 至基板搬运机构侧之空间下方者;及 处理室,被设定成较搬运室之内压更高之压力且配 置成邻接于搬运室,而具备用以由基板搬运机构与 搬运室之间实施交接基板用之第2交接窗,并处理 藉由该第2交接窗所搬入之基板者。12.一般基板处 理装置,主要具备有,处理基板用之处理部及搬入 搬出基板于该处理部之搬运部,其特征为: 前述搬运部具备有: 载置部,载置收容有复数之基板成水平之卡匣用; 基板交接部,被配设于该载置部下方,并在与前述 处理部之间实施基板之交接用; 移动机构,予以移动前述卡匣于前述载置部和前述 基板交接部之间用; 侦测机构,在前述卡匣从前述交接部移动于前述载 置部时,用以侦测基板之露出用者;及 推入机构,用以推入由前述侦测机构所侦测之有露 出之基板于卡匣内用。13.一种基板处理装置,主要 具备有:在密闭状态下来处理基板之处理部及对于 处理部以密闭状态来搬入搬出基板的搬运部,其特 征为: 前述搬运部具备有: 载置部,用以载置以放入有复数之基板成水平状收 容之卡匣于密闭容器之状态用者; 基板交接部,被配设于接连于该载置部下方之处理 部之密闭空间,并与前述处理部之间实施基板交接 着; 移动机构,予以移动卡匣于载置部和基板交接部之 间用者; 侦测机构,在卡匣从交接部移动于载置部之时,用 以侦测从卡匣所露出之基板用者;及 推入机构,当由该侦测机构侦测有露出基板时,将 推入该所露出之基板至卡匣内用者。14.如申请专 利范围第13项所述之基板处理装置,其中更具备有 供应非氧化性气体给予被载置于前述载置部之前 述密闭容器内用之气体供应机构,而在卡匣未存在 于前述密闭容器内之时,方供应非氧化性气体给予 前述密闭容器内。15.如申请专利范围第12项所述 之基板处理装置,其中前述侦测机构乃予以上升卡 匣之同时,侦测基板是否有露出,并在侦测有露出 之该时刻,就予以停止前述卡匣之上升。16.如申请 专利范围第12项所述之基板处理装置,其中前述侦 测机构具备有发光部和受光部。17.如申请专利范 围第12项所述之基板处理装置,其中更具备有,在卡 匣存在于前述基板交接部之状态下,用以侦测有无 基板之露出量在于所定量以上用之第2侦测机构。 18.一种基板搬运装置,主要用以搬运基板,其特为 具备有: 载置部,用以载置复数基板或成水平状数容之卡匣 用者; 基板交接部,被配设于该载置部下方,在与其他装 置之间实施基板之交接用者; 移动机构,用以移动卡匣于前述载置部和前述基板 交接部之间用者; 侦测机构,在卡匣从前述交接部移动于前述载置部 之时用以侦测基板之露出用者;及 推入机构,用以推入由前述侦测机构所侦测之有露 出之基板于卡匣内用者。19.一种基板处理装置,主 要具备有,在密闭状态下来处理基板之处理部及对 于处理部以密闭状态来搬入搬出基板的运部,其特 征为: 前述搬运部具备有: 载置部,用以载置以放入有复数之基板成水状收容 之卡匣于密闭容器之状态用者; 基板交接部,被配设于该载置部下方之密闭空间, 并与设置成接连于密闭空间之其他装置之间实施 基板交接者; 移动机构,予以移动卡匣于前述载置部和前述基板 交接部之间用者; 侦测机构,在卡匣从前述交接部移动于前述载置部 之时,用以侦测基板之露出所用者;及 推入机构,用以推入由前述侦测机构所侦测之露出 基板用之推入机构。20.如申请专利范围第19项所 述之基板处理装置,其中更具备有供应非氧化性气 体给予被载置于前述载置部之前述密闭容器内用 之气体供应机构,而在卡匣未存在于前述密闭容器 内之时,方供应非氧化性气体给予前述密闭容器内 。21.如申请专利范围第19项所述之基板处理装置, 其中前述侦测机构乃予以上升卡匣之同时,侦测基 板是否有露出,并在侦测有露出之该时刻,就予以 停止前述卡匣之上升。22.如申请专利范围第19项 所述之基板处理装置,其中前述侦测机构具备有发 光部和受光部。23.如申请专利范围第19项所述之 基板处理装置,其中更具备有,在卡匣存在于前述 基板交接部之状态下,用以侦测有无基板之露出量 在于所定量以上用之第2侦测机构。24.一种基板搬 运方法,主要用以搬运基板,其特征为具备有: (a)载置收容复数之基板成水平之卡匣于载置部之 过程; (b)移动卡匣至载置部下方之基板交接部之运程; (c)在基板交接部交给卡匣内之基板至其他装置之 过程; (d)将自前述其他装置接受基板至在于前述基板交 接部之前述卡匣内之过程; (e)移动已接收基板之卡匣至前述载置部之过程; (f)在移动前述卡匣于前述载置部时,予以侦测基板 是否露出之过程;及 (g)推入侦测有露出之基板之过程。25.一种基板搬 运方法,主要以密闭状态来搬运基板所用,其特征 为具备有: (A)以放入成水平收容有复数基板之卡匣于密闭容 器状态下来载置于载置部之过程; (B)移动卡匣至配设于载置部下方之密闭空间之基 板交接部之过程; (C)在前述基板交接部予以交给前述卡匣内之基板 至配设于接连之密闭空间之其他装置之过程; (D)将自前述其他装置接受基板至在于前述基板交 接部之前述卡匣内之过程; (E)移动已接受基板之卡匣至前述载置部之过程; (F)在移动前述卡匣于前述载置部时,予以侦测基板 是否露出之过程;及 (G)推入侦测有露出之基板之过程。图式简单说明: 第一图系以模式来显式习知装置之卡匣部的内部 透视图。 第二图系显示有关本发明之实施形态的基板处理 装置之整体平面图。 第三图系基板处理装置之正面图。 第四图系基板处理装置之背面图。 第五图系剖开卡匣站之一部分来显示第1实施形态 之卡匣盖卸下机构之部分透视剖面图。 第六图系显示第1实施形态之卡匣盖卸下机构的透 视斜视图。 第七图系显示用以侦测个个从卡匣前端部或卡匣 所露出之晶圆用之第1及第2之位置感测器的方块 结构图。 第八图A-第八图M之个个系显示第1实施形态之卡匣 盖卸下机构之一连串动作的流程图。 第九图系显示从卡匣内露出之晶圆和副臂之测描 感测器产生相互干扰之状况的平面图。 第十图系剖开卡匣站之一部分以显示第2实施形态 之卡匣盖卸下机构的部分透视剖面图。 第十一图系显示卡匣及盖之分解斜视图。 第十二图系显示第2实施形态之卡匣盖卸下机构和 卡匣盖之斜视图。 第十三图系显示第2实施形态之卡匣盖卸下机构之 平面图。 第十四图系显示第2实施形态之卡匣盖卸下机构之 分解斜视图。 第十五图系显示第1及第2之实施形态之卡匣盖卸 下机构之锁住键的横向剖面图。 第十六图系显示在基板处理装置内之清净空气之 流向之内部透视图。 第十七图系显示在基板处理装置内之清净空气之 流向之内部透视图。 第十八图A-图第十八图E之个个系显示第2实施形态 之卡匣盖卸下机构之一连串动作的流程图。 第十九图系剖开卡匣站之一部分以显示第3实施形 态之卡匣盖卸下机构的部分透视剖面图。 第二十图系显示第3实施形态之卡匣盖卸下机构的 斜视图。 第二十一图系显示第3实施形态之卡匣盖卸下机构 的锁住键之横向剖面图。 第二十二图系显示基板处理装置之概要的斜视图 。 第二十三图系显示卡匣在于载置部时之卡匣站的 纵向剖面透视图。 第二十四图系显示卡匣在于晶圆交接部时之卡匣 站的纵向剖面透视图。 第二十五图系用以说明侦测所露出之晶圆的动作 及推入晶圆之动作用的平面模式图。 第二十六图系显示对于被载置于卡匣站载置部之 密闭容器内供应惰性气体所用之气体供应用喷嘴 的平面图。 第二十七图系显示有关本发明之实施形态的基板 搬运方法之流程图。
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