表面起伏式绕射光学元件及其制作方法

摘要

一种表面起伏式绕射光学元件及其制作方法包括下列步骤:(1)利用一种渐进式(或多层次)光折射率系数分布镀膜技术,在基板上镀上一层渐进光折射率系数分布膜,使光束经过时产生光程差,再以光阻涂布,然后以光罩制版或以激光直接干涉的方式,直接在光阻上拍摄出所需之绕射条纹;(2)经显影、定影而将所需之绕射条纹形成于光阻上;(3)利用前述光阻做为光罩,对渐进式(或多层次)光折射率系数分布膜进行蚀刻,借以在前述的分布膜上形成绕射条纹,最后去除光阻。

主权项

1.一种表面起伏式绕射光学元件的制作方法，包括下列步骤：(1)利用一种渐进式光折射率系数分布镀膜技术，在基板上镀上一层渐进光折射率系数分布膜，使光束经过时可产生光程差，再以光阻涂布镀有渐进式光折射率系数分布膜的基板，渐进式光折射率系数分布规格可由绕射条纹线宽及所需效率等参数，再经精确的耦合波理论计算出所须的光折射率系数分布，然后以激光直接干涉的方式，直接在光阻上拍摄出所需之绕射条纹；(2)经由显影、定影而将所需之绕射条纹形成于光阻上；(3)利用前述光阻做为光罩，并以半导体工艺中常用的蚀刻技术，对渐进式光折射率系数分布膜进行蚀刻，借以在前述渐进式光折射率系数分布膜上形成绕射条纹，最后将光阻去除。