| 摘要 |
<P>L'invention concerne un procédé de mesure de l'épaisseur de couches minces par fluorescence aux rayons X, dans lequel on place un échantillon présentant la couche à analyser dans le champ d'observation et on dirige ensuite sur celle-ci des rayons X, on détecte avec un détecteur de rayonnement le rayonnement fluorescent émis et on détermine l'épaisseur de la couche. Lors du positionnement de l'échantillon on effectue une focalisation par réglage d'un moyen de focalisation le long de son axe optique et on détermine la position du moyen de focalisation près de la couche se trouvant dans le foyer.Le dispositif comprend un générateur (2) de rayons X, un détecteur (17) et un dispositif d'observation optique (26) comportant un moyen de focalisation (27) monté déplaçable le long de son axe optique (32) et muni d'un dispositif de mesure de position (33) .Cette invention intéresse les constructeurs d'appareils de mesure et d'analyse utilisant la fluorescence aux rayons X.</P> |
