发明名称 Plasma-CVD-Verfahren und Vorrichtung
摘要
申请公布号 DE69408405(T2) 申请公布日期 1998.08.20
申请号 DE19946008405T 申请日期 1994.11.10
申请人 NISSIN ELECTRIC CO., LTD., KYOTO, JP 发明人 NAKAHIGASHI, TAKAHIRO, C/O NISSIN ELEC. CO., LTD, KYOTO-SHI, KYOTO, JP;MURAKAMI, HIROSHI, C/O NISSIN ELEC. CO., LTD., KYOTO-SHI, KYOTO, JP;OTANI, SATOSHI, C/O NISSIN ELEC. CO., LTD., KYOTO-SHI, KYOTO, JP;TABATA, TAKAO, C/O NISSIN ELEC. CO., LTD., KYOTO-SHI, KYOTO, JP;MAEDA, HIROSHI, C/O NISSIN ELEC. CO., LTD., KYOTO-SHI, KYOTO, JP;KIRIMURA, HIROYA, C/O NISSIN ELEC. CO., LTD., KYOTO-SHI, KYOTO, JP;KUWAHARA, HAJIME, C/O NISSIN ELEC. CO., LTD., KYOTO-SHI, KYOTO, JP
分类号 C23C16/40;C23C16/515;(IPC1-7):C23C16/50 主分类号 C23C16/40
代理机构 代理人
主权项
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