发明名称 | 记录介质 | ||
摘要 | 提供一种适用于更大容量,更高传送率,和凹坑/纹间表面/纹道集成的记录介质的格式。在第一种方法中,在可记录和可再现区中,构成纹间表面/纹道的双轨迹结构以便其上的纹间表面成为记录轨迹的轨迹和其上的纹道成为记录轨迹的轨迹形成一双螺旋。在只读区,排列凹坑以便在盘的半径方向的轨迹形成在数据区中。在第二种方法中,在可记录和再现区中,构成纹间表面/纹道交替轨迹结构以便在紧跟在其中纹间表面成为数据记录轨迹的圆形轨迹的圆形轨迹内纹道成为数据记录轨迹,而在下一个圆形轨迹中纹间表面成为数据记录轨迹。在只读区,排列凹坑使得在盘的半径方向的轨迹形成在数据区中。 | ||
申请公布号 | CN1189667A | 申请公布日期 | 1998.08.05 |
申请号 | CN97114117.7 | 申请日期 | 1997.10.05 |
申请人 | 索尼株式会社 | 发明人 | 堀米秀喜;飞田実;藤田五郎;登坂进 |
分类号 | G11B7/007;G11B20/12 | 主分类号 | G11B7/007 |
代理机构 | 上海专利商标事务所 | 代理人 | 张政权 |
主权项 | 1.一种盘型记录介质,包括:一个盘形基底;一个伺服区,设置在所述基底上,并且其中形成用于获得伺服信号的多个凹坑;和一个数据区,设置在所述基底上,并且能够向其记录信息或从其再现信息,其中由一个所述伺服区和一个所述数据区形成一个单元区,由多个所述单元区形成一个轨迹,并且对于每一个轨迹交替形成在其上所述数据区形成在纹间表面上的第一轨迹和在其上所述数据区形成在纹道上的第二轨迹。 | ||
地址 | 日本东京 |