发明名称 附有图案之矽氧橡胶成形品的制造方法
摘要 本发明系提供一种附有图案之矽氧橡胶成形品的制造方法,而在此方法中,所采用的转印材料或被覆膜,于成形时,在模具中,接触于矽氧橡胶组成物之转印材料或被覆膜部份的层面上,含有黏接促进成分者,而该黏接促进成份,系至少二个氢原子键结于相同或不同矽原子上的聚有机氢化二烯矽氧烷、或以烯基三乙氧烷矽烷等不饱和键结之烷氧矽烷者。
申请公布号 TW333496 申请公布日期 1998.06.11
申请号 TW086109531 申请日期 1997.07.07
申请人 写真印刷股份有限公司;东芝矽氧树脂股份有限公司 发明人 上野秀树;重田裕康;泽村立彦;藤井宪太郎
分类号 B29C45/14;C08L83/04 主分类号 B29C45/14
代理机构 代理人 康伟言 台北巿南京东路三段二四八号七楼;恽轶群 台北巿松山区南京东路三段二四八号七楼
主权项 1.一种附有图案之矽氧橡胶成形品的制造方法,系 包括有 :配置步骤,将由基片、及设置于该基片之单侧上 至少一 部份位置处之图案层所形成的转印材料,配置于模 具的步 骤;形成步骤,将未硬化矽氧橡胶组成物供给于模 具之模 腔内图案层侧,藉由使其硬化,而形成与转印材料 变成一 体化之矽氧橡胶成形品;分离步骤,由上述与转印 材料形 成一体化的矽氧橡胶成形品,将基片予以分离;其 特征在 于:在模具中,接触于矽氧橡胶组成物,除基片外,转 印 材料部份之至少一部份,系含有黏接促进成分者, 而该黏 接促进成份,系由至少具有一个不饱和键结的烷氧 矽氧类 、以及至少二个氢原子键结于相同或不同矽原子 上的聚有 机氢化二烯矽氧烷类等所组成群中,至少选择一种 化合物 者。2.如申请专利范围第1项之附有图案之附有图 案之矽氧橡 胶成形品的制造方法,其中,该烷氧矽氧类,系包含 有乙 烯基三乙氧基矽氧、乙烯基三(2-甲乙氧基)矽氧、 以及3- 甲丙烯氧化丙基三甲氧基矽氧。3.如申请专利范 围第1项之附有图案之矽氧橡胶成形品的 制造方法,其中将基片分离的步骤,系更进一步包 含有: 取出步骤,乃于矽氧橡胶组成物硬化后,将模具打 开,而 将与转印材料形成一体化的矽氧橡胶成形品,由模 具中取 出之步骤;制得步骤,由与转印材料形成一体化的 矽氧橡 胶成形品中,将基片予以剥离,而制得附有图案之 矽氧橡 胶成形品的步骤。4.如申请专利范围第1项之附有 图案之矽氧橡胶成形品的 制造方法,其中将基片分离的步骤,系更进一步包 含有: 残留步骤,乃于矽氧橡胶组成物硬化后,将模具打 开,由 与转印材料形成一体化的矽氧橡胶成形品上,剥离 基片, 而将附有图案之矽氧橡胶成形品残留于模具内之 步骤;取 出步骤,将附有图案之矽氧橡胶成形品由模具中取 出之步 骤。5.如申请专利范围第1项之附有图案之矽氧橡 胶成形品的 制造方法,其中将基片分离的步骤,系更进一步包 含有: 于矽氧橡胶组成物硬化后,将模具打开,而由与转 印材料 形成一体化的矽氧橡胶成形品上,将基片予以剥离 ,同时 亦将附有图案之矽氧橡胶成形品由模具中取出之 步骤者。6.如申请专利范围第1项之附有图案之矽 氧橡胶成形品的 制造方法,其中该转印材料的配置,系使图案层,相 对于 矽氧橡胶成形品形成整列排置方式,进行定位者。 7.如申请专利范围第1项之附有图案之矽氧橡胶成 形品的 制造方法,其中该图案层、或图案层及基片上未设 置图案 层的单面部份,在模具中系接触于矽氧橡胶组成物 ;而该 图案层之至少其中一部份,系包含有黏接促进成分 者。8.如申请专利范围第1项之附有图案之矽氧橡 胶成形品的 制造方法,其中该转印材料,系更进一步在基片与 图案层 之间具有剥离层;该图案层、或图案层及上面未设 置有图 案层部份的剥离层部份,系接触矽氧橡胶组成物; 该图案 层之至少其中一部份、及/或剥离层之至少其中一 部份, 系包含有黏接促进成分;在矽氧橡胶组成物硬化后 ,将基 片予以分离时,该剥离层系与图案层同时结合于矽 氧橡胶 成形品上,而残留者。9.如申请专利范围第8项之附 有图案之矽氧橡胶成形品的 制造方法,其中该转印材料,系在图案层之至少其 中一部 份、或图案层之至少其中一部份以及上面未设置 有图案层 部份之剥离层的至少其中一部份,更进一步具有黏 接层; 该黏接层、或黏接层与上面未设置有黏接层部份 之图案层 部份、及/或上面均未设置有黏接层及图案层之剥 离层部 份,系接触于矽氧橡胶组成物;该黏接层之至少一 部份、 或黏接层之至少一部份及上面未设置有黏接层部 份之图案 层部份的至少一部份、及/或上面均未设置有黏接 层及图 案层之剥离层部份的至少一部份,系包含有黏接层 促进成 分者。10.如申请专利范围第1项之附有图案之矽氧 橡胶成形品 的制造方法,其中该未硬化矽氧橡胶组成物,系为 加成反 应型液状矽氧橡胶组成物,乃包含有:a成份:每一分 子 中至少具有二个烯基的聚有机矽氧烷;b成份:每一 分子 中具有至少2个氢原子键结于相同或不相同矽原子 之聚有 机氢化二烯矽氧烷;c成份:白金化合物者;其中,尤 以a 成份的平均每一分子烯基数目及b成份的平均每一 分子矽 原子数目中,至少其中一者平均在3以上者为佳。11 .如申请专利范围第1项之附有图案之矽氧橡胶成 形品 的制造方法,其中该含有黏接促进成分之部分,系 以含量 在0.1-10重量%范围内者。12.一种附有图案之矽氧橡 胶成形品的制造方法,系包括 有:配置步骤,将由基片、及设置于该基片之单侧 上至少 一部份位置处之图案层所形成的被覆膜,配置于模 具的步 骤;形成步骤,将未硬化矽氧橡胶组成物供给于模 具之模 腔内图案层侧,藉由使其硬化,而形成与被覆膜变 成一体 化之矽氧橡胶成形品;其特征在于:在模具中,接触 于矽 氧橡胶组成物,除基片外,转印材料部份之至少一 部份, 系含有黏接促进成分者,而该黏接促进成份,系由 至少具 有一个不饱和键结的烷氧矽氧类、以及至少二个 氢原子键 结于相同或不同矽原子上的聚有机氢化二烯矽氧 烷类等所 组成群中,至少选择一种化合物者。13.如申请专利 范围第12项之附有图案之矽氧橡胶成形品 的制造方法,其中,该烷氧矽氧类,系包含有乙烯基 三乙 氧基矽氧、乙烯基三(2-甲乙氧基)矽氧、以及3-甲 丙烯氧 化丙基三甲氧基矽氧。14.如申请专利范围第12项 之附有图案之矽氧橡胶成形品 的制造方法,其中该被覆膜的配置,系使图案层,相 对于 矽氧橡胶成形品形成整列排置方式,进行定位者。 15.如申请专利范围第12项之附有图案之矽氧橡胶 成形品 的制造方法,其中该图案层、或图案层与上面未设 置图案 层的基片之单侧的部份,系在模具中,与矽氧橡胶 组成物 相接触者,而该图案层之至少一部份,系包含有黏 接促进 成分者。16.如申请专利范围第12项之附有图案之 矽氧橡胶成形品 的制造方法,其中被覆膜,系在图案层之至少其中 一部份 、或图案层之至少其中一部份以及上面未设置有 图案层部 份之剥离层的至少其中一部份,更进一步具有黏接 层;该 黏接层、或黏接层与上面未设置有黏接层部份之 图案层部 份、及/或上面均未设置有黏接层及图案层部份, 系接触 于矽氧橡胶组成物;该黏接层之至少一部份、或黏 接层之 至少一部份及上面未设置有黏接层部份之图案层 部份的至 少一部份,系包含有黏接层促进成分者。17.如申请 专利范围第12项之附有图案之矽氧橡胶成形品 的制造方法,其中该未硬化矽氧橡胶组成物,系为 加成反 应型液状矽氧橡胶组成物,乃包含有:a成份:每一分 子 中至少具有二个烯基的聚有机矽氧烷;b成份:每一 分子 中具有至少2个氢原子键结于相同或不相同矽原子 之聚有 机氢化二烯矽氧烷;c成份:白金化合物者;其中,尤 以a 成份的平均每一分子烯基数目及b成份的平均每一 分子矽 原子数目中,至少其中一者平均在3以上者为佳。18 .如申请专利范围第12项之附有图案之矽氧橡胶成 形品 的制造方法,其中该含有黏接促进成分之部分,系 以含量 在0.1-10重量%范围内者。19.一种转印材料,系一种 由基片、及在基片单侧之至少 一部份上所设置图案层而构成,在附有图案之矽氧 橡胶成 形品之制造中,所采用的转印材料;成形时,在模具 中, 接触于矽氧橡胶组成物,除基片外,转印材料部份 之至少 一部份,系含有黏接促进成分者,而该黏接促进成 份,系 由至少具有一个不饱和键结的烷氧矽氧类、以及 至少二个 氢原子键结于相同或不同矽原子上的聚有机氢化 二烯矽氧 烷类等所组成群中,至少选择一种化合物者。20.如 申请专利范围第19项之转印材料,其中,该烷氧矽 氧类,系包含有乙烯基三乙氧基矽氧、乙烯基三(2- 甲乙 氧基)矽氧、以及3-甲丙烯氧化丙基三甲氧基矽氧 。21.如申请专利范围第19项之转印材料,其中该图 案层、 或图案层及基片上未设置图案层的单面部份,在模 具中系 接触于矽氧橡胶组成物;而该图案层之至少其中一 部份, 系包含有黏接促进成分者。22.如申请专利范围第 19项之转印材料,其中该转印材料 ,系更进一步在基片与图案层之间具有剥离层;该 图案层 、或图案层及上面未设置有图案层部份的剥离层 部份,系 接触矽氧橡胶组成物;该图案层之至少其中一部份 、及/ 或剥离层之至少其中一部份,系包含有黏接促进成 分;在 矽氧橡胶组成物硬化后,将基片予以分离时,该剥 离层系 与图案层同时结合于矽氧橡胶成形品上,而残留者 。23.如申请专利范围第22项之转印材料,其中转印 材料, 系在图案层之至少其中一部份、或图案层之至少 其中一部 份以及上面未设置有图案层部份之剥离层的至少 其中一部 份,更进一步具有黏接层;该黏接层、或黏接层与 上面未 设置有黏接层部份之图案层部份、及/或上面均未 设置有 黏接层及图案层之剥离层部份,系接触于矽氧橡胶 组成物 ;该黏接层之至少一部份、或黏接层之至少一部份 及上面 未设置有黏接层部份之图案层部份的至少一部份 、及/或 上面均未设置有黏接层及图案层之剥离层部份的 至少一部 份,系包含有黏接层促进成分者。24.如申请专利范 围第19项之转印材料,其中接触于该未 硬化矽氧橡胶组成物之部分,系至少包含有尿胺系 树脂者 。25.一种被覆膜,系一种由基片、及在基片单侧之 至少一 部份上所设置图案层而构成,在附有图案之矽氧橡 胶成形 品之制造中,所采用的被覆膜;成形时,在模具中,接 触 于矽氧橡胶组成物,除基片外,转印材料部份之至 少一部 份,系含有黏接促进成分者,而该黏接促进成份,系 由至 少具有一个不饱和键结的烷氧矽氧类、以及至少 二个氢原 子键结于相同或不同矽原子上的聚有机氢化二烯 矽氧烷类 等所组成群中,至少选择一种化合物者。26.如申请 专利范围第25项之被覆膜,其中,该烷氧矽氧 类,系包含有乙烯基三乙氧基矽氧、乙烯基三(2-甲 乙氧 基)矽氧、以及3-甲丙烯氧化丙基三甲氧基矽氧。 27.如申请专利范围第25项之被覆膜,其中该图案层 、或 图案层及基片上未设置图案层的单面部份,在模具 中系接 触于矽氧橡胶组成物;而该图案层之至少其中一部 份,系 包含有黏接促进成分者。28.如申请专利范围第25 项之被覆膜,其中,该被覆膜, 系在图案层之至少其中一部份、或图案层之至少 其中一部 份以及上面未设置有图案层部份之剥离层的至少 其中一部 份,更进一步具有黏接层;该黏接层、或黏接层与 上面未 设置有黏接层部份之图案层部份、及/或上面均未 设置有 黏接层及图案层之剥离层部份,系接触于矽氧橡胶 组成物 ;该黏接层之至少一部份、或黏接层之至少一部份 及上面 未设置有黏接层部份之图案层部份的至少一部份 、及/或 上面均未设置有黏接层及图案层之剥离层部份的 至少一部 份,系包含有黏接层促进成分者。29.如申请专利范 围第25项之被覆膜,其中接触于该未硬 化矽氧橡胶组成物之部分,系至少包含有尿胺系树 脂者。30.一种附有图案之矽氧橡胶成形品,系采用 如申请专利 范围第1-11项中任一项之制造方法,进行制造而得 者。31.一种附有图案之矽氧橡胶成形品,系采用如 申请专利 范围第12-18项中任一项之制造方法,进行制造而得 者。32.一种附有图案之矽氧橡胶成形品,系采用如 申请专利 范围第19-24项中任一项之转印材料,所形成而得者 。33.一种附有图案之矽氧橡胶成形品,系采用如申 请专利 范围第25-29项中任一项之被覆膜,所形成而得者。 图示 简单说明:第一图系适用于本发明所提供之附有图 案之矽 氧橡胶成形品之制造方法中的射出成型用模具之 其中一实 施例的剖面示意图,乃模具封闭下供给矽氧橡胶组 成物前 的状态者。第二图系适用于本发明所提供之附有 图案之矽 氧橡胶成形品之制造方法中的射出成型用模具之 其中一实 施例的剖面示意图,乃供给有矽氧橡胶组成物的状 态者。 第三图系适用于本发明所提供之附有图案之矽氧 橡胶成形 品之制造方法中的射出成型用模具之其中一实施 例的剖面 示意图,乃矽氧橡胶组成物予以硬化,而将该模具 予以打 开的状态者。第四图系适用于本发明所提供之附 有图案之 矽氧橡胶成形品之制造方法中的射出成型用模具 之其中一 实施例的剖面示意图,乃将矽氧橡胶成形品由模具 中取出 的状态者。第五图系利用于本发明所提供之附有 图案之矽 氧橡胶成形品之制造方法,而所获得之矽氧橡胶成 形品, 其中一实施例之部份立体示意图。第六图系本发 明所提供 之附有图案之矽氧橡胶成形品之制造方法,所使用 之转印 材料其中一实施例的剖面示意图。第七图系利用 本发明所 提供之附有图案之矽氧橡胶成形品之制造方法,而 所获得 之矽氧橡胶成形品,其中一实施例之部份剖面示意 图。第 八图系本发明所提供之附有图案之矽氧橡胶成形 品之制造 方法,所使用之复覆膜其中一实施例的剖面示意图 。第九 图系适用于本发明所提供之附有图案之矽氧橡胶 成形品之 制造方法中的挤压成型用模具之其中一实施例的 剖面示意 图,乃模具封闭下供给矽氧橡胶组成物前的状态者 。第十 图系适用于本发明所提供之附有图案之矽氧橡胶 成形品之 制造方法中的挤压(或压缩)成型用模具之其中一 实施例的 剖面示意图,乃供给有矽氧橡胶组成物的状态者。 第十一 图系适用于本发明所提供之附有图案之矽氧橡胶 成形品之 制造方法中的挤压成型用模具之其中一实施例的 剖面示意 图,乃矽氧橡胶组成物予以硬化,而将该模具予以 打开的 状态者。第十二图系适用于本发明所提供之附有 图案之矽 氧橡胶成形品之制造方法中的挤压成型用模具之 其中一实 施例的剖面示意图,乃将矽氧橡胶成形品由模具中 取出的 状态者。
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