| 发明名称 |
SELF-PLANARIZING LOW-TEMPERATURE DOPED SILICATE GLASS PROCESS CAPABLE OF GAP-FILLING NARROW SPACE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH11317409(A) |
申请公布日期 |
1999.11.16 |
| 申请号 |
JP19980375377 |
申请日期 |
1998.11.25 |
| 申请人 |
TEXAS INSTR INC <TI> |
发明人 |
NAG SOMNATH S;SHINN GREGORY B;DIXIT GIRISH A |
| 分类号 |
H01L21/3205;C23C16/50;C23C16/505;H01L21/3105;H01L21/316;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/320 |
主分类号 |
H01L21/3205 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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