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发明名称
用于制造鳍状场效电晶体之系统以及方法
摘要
本发明揭示一种用于制造鳍状场效电晶体的系统以及方法。更明确言之,在一具体实施例中,提供一种方法,其包含:在一基板上沈积一层氮化物层;在该氮化物层上施加一微影蚀刻遮罩以界定一壁之位置;蚀刻该氮化物层以建立该壁;移除该微影蚀刻遮罩;沈积一与该壁相邻之间隔件层;蚀刻该间隔件层以建立一与该壁相邻之间隔件,其中该间隔件及该壁覆盖该基板之一第一部分;及蚀刻该基板未由该间隔件覆盖之一第二部分,以产生一渠沟。
申请公布号
TW200818338
申请公布日期
2008.04.16
申请号
TW096130937
申请日期
2007.08.21
申请人
美光科技公司
发明人
山恩D 谭;高登 哈勒
分类号
H01L21/336(2006.01);H01L21/8242(2006.01)
主分类号
H01L21/336(2006.01)
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
美国
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