发明名称 用于制造鳍状场效电晶体之系统以及方法
摘要 本发明揭示一种用于制造鳍状场效电晶体的系统以及方法。更明确言之,在一具体实施例中,提供一种方法,其包含:在一基板上沈积一层氮化物层;在该氮化物层上施加一微影蚀刻遮罩以界定一壁之位置;蚀刻该氮化物层以建立该壁;移除该微影蚀刻遮罩;沈积一与该壁相邻之间隔件层;蚀刻该间隔件层以建立一与该壁相邻之间隔件,其中该间隔件及该壁覆盖该基板之一第一部分;及蚀刻该基板未由该间隔件覆盖之一第二部分,以产生一渠沟。
申请公布号 TW200818338 申请公布日期 2008.04.16
申请号 TW096130937 申请日期 2007.08.21
申请人 美光科技公司 发明人 山恩D 谭;高登 哈勒
分类号 H01L21/336(2006.01);H01L21/8242(2006.01) 主分类号 H01L21/336(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 美国