发明名称 | 绝缘栅异质结双极晶体管 | ||
摘要 | 本发明给出了一簇绝缘栅异质结双极晶体管,其特征在于采用了不同于衬底Si材料的窄禁带SiGe材料做为源区或准SiGe源区,并又采用宽禁带材料作为阳极或短路阳极。在本发明中,SiGe源区窄禁带发射极HBT具有很低的β值,使器件闭锁条件得不到满足,而宽禁带阳极的采用又使器件的阳极发射极注入能力提高,因而本发明从器件结构上彻底地消除了闭锁效应,并使器件的可靠性、电流能力、速度等性能有显著改善,另可作为崭新的小信号超高增益场控器件。 | ||
申请公布号 | CN1165404A | 申请公布日期 | 1997.11.19 |
申请号 | CN96117550.8 | 申请日期 | 1996.05.14 |
申请人 | 电子科技大学 | 发明人 | 李平;李肇基 |
分类号 | H01L29/737 | 主分类号 | H01L29/737 |
代理机构 | 电子科技大学专利事务所 | 代理人 | 严礼华 |
主权项 | 1、一种绝缘栅异质结双极晶体管,其特征在于它的源区采用了窄禁带异质SiGe材料,它包括:在高掺杂浓度Si衬底(1)的一面上有导电类型与其相反的低掺杂浓度漂移区(2),在所述漂移区(2)的表面附近设置有导电类型与其相同的高掺杂浓度窄禁带异质SiGe源区(6),并在其相邻处分别有导电类型与其相反的沟道区(3)和高掺杂浓度源极短路区(4),所述的源极短路区(4)不须紧靠沟道区(3)的边缘,由所述的SiGe源区(6)和源极短路区(4)组成阴极区,在所述的阴极区局部表面和阴极区以外的Si表面形成有绝缘介质膜(10),高掺杂浓度衬底(1)作为同质Si阳极区,从所述的阴极区表面、沟道区(3)上方绝缘介质膜(10)表面和阳极区(1)背面形成有导电性能良好的电极并相应引出K、G、A电极构成窄禁带异质SiGe源区纵向IGHBT。 | ||
地址 | 610054四川省成都市建设北路二段四号 |