发明名称 Verfahren zur plasmaunterstützten Abscheidung von dünnen Schichten
摘要
申请公布号 DE19544498(C2) 申请公布日期 1997.10.30
申请号 DE19951044498 申请日期 1995.11.29
申请人 ANTEC ANGEWANDTE NEUE TECHNOLOGIEN GMBH, 65779 KELKHEIM, DE 发明人 HARTMANN, ROLF, DIPL.-ING., 65779 KELKHEIM, DE;RONGE, WERNER, DIPL.-ING., 64546 MOERFELDEN-WALLDORF, DE;TSCHENTSCHER, ARMIN, DIPL.-ING., 65439 FLOERSHEIM, DE
分类号 C23C16/02;C23C16/26;C23C16/30;(IPC1-7):C23C16/30;C23C16/52 主分类号 C23C16/02
代理机构 代理人
主权项
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