| 发明名称 |
Plasma etching of wafers with magnetic field control of ions |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2312400(A) |
申请公布日期 |
1997.10.29 |
| 申请号 |
GB19970008271 |
申请日期 |
1997.04.24 |
| 申请人 |
* HYUNDAI ELECTRONICS INDUSTRIES CO., LTD. |
发明人 |
CHANG-HEON * KWON |
| 分类号 |
C23F4/00;H01J37/32;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H01J37/32;H01L21/306 |
主分类号 |
C23F4/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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