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发明名称
Sputter etching apparatus with plasma source having a dielectric pocket and contoured plasma source
摘要
申请公布号
GB9717174(D0)
申请公布日期
1997.10.22
申请号
GB19970017174
申请日期
1995.11.09
申请人
MATERIALS RESEARCH CORPORATION
发明人
分类号
H01J37/32
主分类号
H01J37/32
代理机构
代理人
主权项
地址
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