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发明名称 Verfahren zur Erzeugung eines Fotolackmusters auf einem Halbleitersubstrat durch Lichtbestrahlung
摘要
申请公布号 DE69221775(D1) 申请公布日期 1997.10.02
申请号 DE19926021775 申请日期 1992.05.14
申请人 SHARP K.K., OSAKA, JP 发明人 TABUCHI, HIROKI, NARA-SHI, NARA-KEN, JP;IGUCHI, KATSUJI, YAMATOKORIYAMA-SHI, NARA-KEN, JP;TANIGAWA, MAKOTO, KITAKATSURAGI-GUN, NARA-KEN, JP
分类号 G03F1/00;G03F7/00;G03F7/095;G03F7/20;G03F7/40;(IPC1-7):G03F7/095 主分类号 G03F1/00
代理机构 代理人
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