发明名称 BEVELING METHOD FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATES
摘要 PURPOSE:To produce beveled wafers by cutting shallow grooves while rotating a semiconductor and further slicing the semiconductor from the groove parts with a smaller margin to cut than said groove width.
申请公布号 JPS52115168(A) 申请公布日期 1977.09.27
申请号 JP19760031272 申请日期 1976.03.24
申请人 HITACHI LTD 发明人 MIMURA AKIO
分类号 H01L21/304 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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