| 发明名称 |
PLANER MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0995781(A) |
申请公布日期 |
1997.04.08 |
| 申请号 |
JP19960083663 |
申请日期 |
1996.04.05 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS INC |
发明人 |
EIBUI TEPUMAN;NOOMAN UIRIAMU PAAKAA |
| 分类号 |
C23C14/35;C23C14/50;H01J37/34;(IPC1-7):C23C14/35 |
主分类号 |
C23C14/35 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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