摘要 |
COMPUESTOS DE LA FORMULA GENERAL (I) EN DONDE: R1 REPRESENTA UN GRUPO DE PROTECCION DE HIDROXILO; Y R2 REPRESENTA UN ATOMO DE HIDROGENO O HALOGENO, UN GRUPO AZIDA, UN GRUPO C1-3 ALQUILO, UN GRUPO (CH2)MOR3 EN DONDE M ES CERO O UNO Y R3 REPRESENTA UN ATOMO DE HIDROGENO O UN GRUPO DE PROTECCION DE HIDROXILO, UN GRUPO AZIDOETOXILO, UN GRUPO HIDROXIETOXILO PROTEGIDO O UN GRUPO XR4 EN DONDE X ES UN ATOMO DE OXIGENO O EL GRUPO S(O)N EN DONDE N ES CERO, 1 O 2 Y R4 REPRESENTA UN GRUPO C1-5 ALQUILO, C3-7 CICLOALQUILO O FENILO, O, CUANDO X SEA OXIGENO O SULFURO, R4 PUEDE REPRESENTAR TAMBIEN EL GRUPO ALKNR5R6 EN DONDE ALK REPRESENTA UNA CADENA DE ALQUILENO C2-6 RECTA O BIFURCADA Y R5 Y R6 REPRESENTAN INDEPENDIENTEMENTE UN ATOMO DE HIDROGENO O UN GRUPO C1-4 ALQUILO O R5 Y R6 JUNTO CON EL ATOMO DE HIDROGENO AL QUE SE UNEN FORMAN UN ANILLO PIRROLIDINO O PIPERIDINO O EL GRUPO NR5R6 REPRESENTA UN GRUPO AMINO-PROTEGIDO, O R2 REPRESENTA EL GRUPO (CH2)MNR7R8 EN DONDE M ES CERO O 1 Y R7 Y R8 REPRESENTAN INDEPENDIENTEMENTE UN ATOMO DE HIDROGENO O UN GRUPO C1-4ALQUILO O NR7R8 REPRESENTA UN GRUPO AMINO EL ATOMO DE CARBONO AL QUE SE UNE REPRESENTAN UN GRUPO CETO O SU DERIVADO CETAL; Y SALES DE ADICION ACIDA DE LOS COMPUESTOS QUE CONTENGAN CENTROS BASICOS
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