| 发明名称 |
Process for etching conductor layers in integrated circuits. |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
EP0652588(A3) |
申请公布日期 |
1997.02.19 |
| 申请号 |
EP19940307856 |
申请日期 |
1994.10.26 |
| 申请人 |
AT&T CORP. |
发明人 |
CHITTIPEDDI, SAILESH;COCHRAN, WILLIAM THOMAS |
| 分类号 |
C23F1/00;C23F4/00;H01L21/033;H01L21/306;H01L21/3065;H01L21/3213;(IPC1-7):H01L21/033;H01L21/321 |
主分类号 |
C23F1/00 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
