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发明名称 Verfahren zur selektiven Ablagerung eines Metallfilms
摘要
申请公布号 DE19627017(A1) 申请公布日期 1997.01.09
申请号 DE19961027017 申请日期 1996.07.04
申请人 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA, KAWASAKI, KANAGAWA, JP 发明人 ITOH, HITOSHI, TOKIO/TOKYO, JP
分类号 C23C16/02;C23F4/00;H01L21/285;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/283;H01L21/441 主分类号 C23C16/02
代理机构 代理人
主权项
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