| 发明名称 |
PHOTORESIST OVERCOATING MATERIAL AND RESIST PATTERN FORMING METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH08254834(A) |
申请公布日期 |
1996.10.01 |
| 申请号 |
JP19950083400 |
申请日期 |
1995.03.15 |
| 申请人 |
SHIN ETSU CHEM CO LTD |
发明人 |
TSUCHIYA JUNJI;OBA KAZUHIRO;TAKEMURA KATSUYA;ISHIHARA TOSHINOBU |
| 分类号 |
G03F7/039;G03F7/11;G03F7/38;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/11 |
主分类号 |
G03F7/039 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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