发明名称 酞菁单偶氮化合物及其制备方法
摘要 一种酞菁单偶氮化合物,它由下式(I)表示:式中Pc表示一酞菁基;M表示镍,钴或铜;R<SUB>1</SUB>表示氢原子或低级烷基;R<SUB>2</SUB>和R<SUB>3</SUB>表示氢原子,低级烷基,低级烷氧基或磺基;R<SUB>4</SUB>表示氢或低级烷基;A表示含有三嗪基或吡唑基和/或-SO<SUB>2</SUB>X的基,其中,X表示-CH=CH<SUB>2</SUB>或-CH<SUB>2</SUB>CH<SUB>2</SUB>Y,Y表示由碱的作用可分裂的基;p是0-2的数值,q是1-3的数值;r是1-2的数值;p+q+r等于或小于4,该化合物或者是一种分子式(I)化合物的盐。
申请公布号 CN1130199A 申请公布日期 1996.09.04
申请号 CN95121697.X 申请日期 1995.12.14
申请人 住友化学工业株式会社 发明人 荒木聪之;时枝武美;薮下伸一;植田泰嘉;槻濑文治
分类号 C09B47/24 主分类号 C09B47/24
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 张元忠
主权项 1.一种由分子式(I)表示的酞菁单偶氮衍生物:式中,Pc表示一酞菁基;M表示镍,钴或铜;R1表示氢原子或未取代或已被取代的低级烷基;R2和R3可相同或不同并表示氢原子,未取代或已被取代的低级烷基,低级烷氧基或磺基;R4表示氢原子,或未取代或已被取代的低级烷基;A表示-B-C,其中B是由下式表示的基:或式中,R5表示一未取代或已被取代的低级烷基,R6和R7可相同或不同并表示氢原子,未取代或已被取代的低级烷基,低级烷氧基或磺基,R8和R9可相同或不同并表示氢原子。未取代的或已被取代的低级烷基,低级烷氧基,磺基,低级烷基磺酰基,羟乙酰氨基,未取代或已被取代的低级烷基或-NHCOR基,其中R表示低级烷基,低级烷氧基,苯基或-NR′R″基,其中,R′和R″可相同或不同并表示氢原子,未取代或已被取代的低级烷基;C是由下式表示的基:式中,R10和R12可相同或不同并表示氢原子或未取代或已被取代的低级烷基。R11表示氯原子,氟原子,溴原子,低级烷氧基,未取代或已被取代的低级烷氨基,通过氮附着在三嗪环上的饱和含氮杂环基,或苯氨基,该基是未取代或由1-3个基或原子取代的基,这些基或原子选自未取代或已被取代的低级烷基,低级烷氧基,氯原子,氟原子,溴原子,在苯环上的-COOH,-SO3H或-SO2X2基。式中,氨基的氮原子可被已被取代的或未取代的低级烷基取代;R13和R14可相同不同并表示一氢原子,一未取代或已被取代的低级烷基,一低级烷氧基,或一磺基;或者A是由下式表示的一个基:式中R15表示氢原子,低级烷基,羧基或低级烷氧羰基,R16表示一羟基或一-NH2基,R17和R18可相同或不同并表示氢原子,低级烷氧基,磺基,氟原子,氯原子,溴原子,乙酰氨基,丙酰氨基,羧基,-SO2X4基或未取代或已被取代的低级烷基;X1,X2,X3和X4可相同或不同,并表示-CH=CH2或-CH2CH2Y,其中Y表示可通过碱的作用而被除去的基;P是0-2;q是1-3;r是0.5-2,及p+q+r等于或小于4;规定当p为0时,R11是氯原子,氟原子,溴原子或由至少SO2X2基取代的苯氨基;或其盐。
地址 日本大阪府