| 主权项 |
1. 一种氧化扩散处理装置,其特征为,具备有: 使长方向成垂直地被配置,在其中将被收容多数被 处理体 之处理容器, 和被设在处理容器之周围,将处理容器内加热之加 热手段 , 和具备处理气体供给源,和连通此处理气体供给源 和前述 处理容器之下部的处理气体导入管,从前述处理容 器之下 部把处理气体供给到其中之处理气体供给手段, 和具备于前述处理容器之上端内侧的中央部加以 开口,具 有一部分延伸存在于前述处理容器之内侧由上而 下的气体 排气管,和连接于此气体排气管之排气装置,从前 述处理 容器之上部排出处理后之废气之排气手段, 对于由前述加热手段被加热到所定温度之被处理 体供给处 理气体而对被处理体实施氧化扩散处理之氧化扩 散处理装 置。2. 如申请专利范围第1项所述之氧化扩散处理 装置,其中 ,前述处理气体供给手段,具备有处理气体供给源, 和把 从处理气体供给源之处理气体导入到前述处理容 器内之处 理气体导入管者。3. 如申请专利范围第2项所述之 氧化扩散处理装置,其中 ,前述处理气体供给手段,更具备有把从处理气体 导入管 之处理气体导入处理容器内之备有多数导入孔之 处理气体 导入部者。4. 如申请专利范围第2项所述之氧化扩 散处理装置,其中 ,前述处理气体导入管,系和前述处理容器被一体 构成者 。5. 如申请专利范围第2项所述之氧化扩散处理装 置,其中 ,前述排气手段,备有在前述处理容器之上部将废 气排出 之气体排出管,和被连结在该气体排出管,将处理 容器内 予以排气之排气装置者。6. 如申请专利范围第5项 所述之氧化扩散处理装置,其中 ,前述气体排出管,系和前述处理容器被一体构成 者。7. 如申请专利范围第6项所述之氧化扩散处理 装置,其中 ,前述气体排出管及前述处理气体导入管,系和前 述处理 容器被一体构成者。8. 如申请专利范围第5项所述 之氧化扩散处理装置,其中 ,前述气体排出管,系有从处理容器之上部向下部 之部份 ,其部份被设在前述处理容器内者。9. 如申请专利 范围第5项所述之氧化扩散处理装置,其中 ,前述气体排出管之气体入口端,系位于前述处理 容器上 部之中央部者。10. 如申请专利范围第1项所述之 氧化扩散处理装置,其 中,前述氧化扩散处理装置为常压程序用者。11. 一种氧化扩散处理装置,其特征为,具备有: 使长方向成垂直地被配置,在其中将被收容多数被 处理体 之处理容器, 和被设在处理容器之周围,将处理容器内加热之加 热手段 , 和具备处理气体供给源,和连通此处理气体供给源 和前述 处理容器之下部的处理气体导入管,从前述处理容 器之下 部把处理气体供给到其中之处理气体供给手段, 和具备于前述处理容器之上端内侧的中央部加以 开口,具 有一部分延伸存在于前述处理容器之内侧由上而 下的气体 排气管,和连接于此气体排气管之排气装置,从前 述处理 容器之上部排出处理后之废气之排气手段, 对于由前述加热手段被加热到所定温度之被处理 体供给处 理气体而对被处理体实施氧化扩散处理,同时在前 述被处 理体之装载及卸载时以冲洗气体供给手段将前述 处理容器 内予以冲洗之氧化扩散处理装置。12. 如申请专利 范围第11项所述之氧化扩散处理装置,其 中,前述处理气体供给手段,具备有处理气体供给 源,和 把从处理气体供给源之处理气体导入到前述处理 容器内之 处理气体导入管者。13. 如申请专利范围第12项所 述之氧化扩散处理装置,其 中,前述处理气体供给手段,更具备有把从处理气 体导入 管之处理气体导入处理容器内之备有多数导入孔 之处理气 体导入部者。14. 如申请专利范围第12项所述之氧 化扩散处理装置,其 中,前述排气手段,备有在前述处理容器之上部排 出废气 之气体排出管,和被连结在该气体排出管,将处理 容器内 排气之排气装置者。15. 如申请专利范围第11项所 述之氧化扩散处理装置,其 中,前述冲洗气体供给手段,具备有冲洗气体供给 源,和 把从冲洗气体供给源之冲洗气体导入到前述处理 器内之冲 洗气体导入管者。16. 如申请专利范围第15项所述 之氧化扩散处理装置,其 中,前述冲洗气体导入管,系在处理容器之下部被 插入到 处理容器,由其插入部份到其对应于处理容器上部 之部份 被设在前述处理容器内者。17. 如申请专利范围第 15项所述之氧化扩散处理装置,其 中,前述冲洗气体导入管之出口端,系位于前述处 理容器 上部之中央部者。18. 如申请专利范围第14项所述 之氧化扩散处理装置,其 中,前述冲洗气体供给手段,系具备有冲洗气体供 给源, 和把从涑洗气体供给源之冲洗气体导入到前述处 理容器内 之冲洗气体导入管者。19. 如申请专利范围第18项 所述之氧化扩散处理装置,其 中,前述气体排出管,处理气体导入管及冲洗气体 导入管 ,系和前述处理容器被一体构成者。图示简单说明 : 图1,为显示关于本发明的一形态之氧化扩散处理 装置的 剖面图。 图2,为显示被使用在图1之装置的处理容器之斜视 图。 图3,为显示被使用在图1之装置的处理气体供给部 之斜视 图。 |
