| 发明名称 |
SEMICONDUCTOR MANUFACTURING DEVICE AND METHOD OF DECIDING END OF FORMATION OF OXIDE FILM, WHICH IS USED FOR THAT DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH08139082(A) |
申请公布日期 |
1996.05.31 |
| 申请号 |
JP19940273350 |
申请日期 |
1994.11.08 |
| 申请人 |
HITACHI LTD;HITACHI VLSI ENG CORP |
发明人 |
HASEBE TADAYOSHI;KATO HIDEAKI |
| 分类号 |
C30B25/16;H01L21/31;(IPC1-7):H01L21/31 |
主分类号 |
C30B25/16 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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