发明名称 | 具有反射全息图薄膜的光盘及其制造方法 | ||
摘要 | 用于制造光盘的方法,包括的步骤有在基片上顺序沉淀多个反射全息图薄膜层和一透明中间层,反射全息图薄膜层具有反射一预定波长的激光束的能力并能透过不是该预定波长而是其它波长的激光束。 | ||
申请公布号 | CN1120219A | 申请公布日期 | 1996.04.10 |
申请号 | CN94120180.5 | 申请日期 | 1994.11.17 |
申请人 | 大宇电子株式会社 | 发明人 | 崔换文 |
分类号 | G11B7/26;G11B7/24 | 主分类号 | G11B7/26 |
代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 蹇炜 |
主权项 | 1.一种制造光记录介质的方法,包括如下步骤:加工一具有一记录面的主盘;在该主盘上压制一压模,使其具有相应于该记录面的加工表面,并使之与主盘分离;在该压模上预制一基片,在基片上有一定量的记录沟纹,这些沟纹在光可读状态可以存贮数据/信息,并使基片从该压模分离;在该基片上以所希望的形式附上第一反射全息图薄膜,该薄膜具有反射第一预定波长的激光束的能力并能透过不是第一预定波长的其它波长的激光束;在第一反射全息图薄膜上沉淀一透明中间层;在该透明中间层上附上第二反射全息薄膜,该薄膜具有反射第二预定波长的激光束的能力并能透过不是第2预定波长的其它波长的激光束;和在第二反射全息图薄膜上沉淀一透明保护层。 | ||
地址 | 韩国汉城 |