发明名称 Verfahren zur selektiven reaktiven Ionenätzung von Substraten.
摘要
申请公布号 DE3854113(T2) 申请公布日期 1996.02.29
申请号 DE19883854113T 申请日期 1988.09.27
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORP., ARMONK, N.Y., US 发明人 DESILETS, BRIAN HENRY, WAPPINGERS FALLS NEW YORK 12590, US;KAPLAN, RICHARD DEAN, WAPPINGERS FALLS, N.Y. 12590, US;SACHDEV, HARBANS SINGH, WAPPINGERS FALLS, N.Y. 12590, US;SACHDEV, KRISHNA GANDHI, WAPPINGERS FALLS, N.Y. 12590, US;SANCHEZ, SUZAN ANN, GHENHAM NEW YORK 12527, US
分类号 H01L21/302;G03F7/09;H01B13/00;H01L21/3065;(IPC1-7):G03F7/09 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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