发明名称 PROCESS FOR MEASURING THE DEPTH OF A MICROSTRUCTURE
摘要 <p>Es wird ein Verfahren zur Messung der Tiefe einer Mikrostruktur bei Übertragung der Struktur mittels eines Prägeverfahrens in eine verformbare Schicht vorgeschlagen, bei dem in der zu übertragenden Mikrostruktur eine geometrisch einfache Referenz-Gitterstruktur vorgesehen wird. Diese Referenz-Gitterstruktur bewirkt eine Interferenz eines Meß-Lichtstrahls. Die sich ergebende Farbverteilung ergibt dann ein Maß für die erzielte Strukturtiefe.</p>
申请公布号 WO1996002807(A1) 申请公布日期 1996.02.01
申请号 DE1995000783 申请日期 1995.06.10
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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