首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 Ion implantation apparatus and method of cleaning the same
摘要
申请公布号 EP0474108(B1) 申请公布日期 1995.12.27
申请号 EP19910114432 申请日期 1991.08.28
申请人 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA 发明人 SHIOZAKI, MASAKAZU, C/O INTELLECTUAL PROPERTY DIV.;OKUMURA, KATSUYA, C/O INTELLECTUAL PROPERTY DIV.
分类号 C23C14/48;C23G5/00;H01J37/02;H01J37/16;H01J37/18;H01J37/317;H01L21/265;(IPC1-7):H01J37/02 主分类号 C23C14/48
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com