| 发明名称 |
Method for forming photoresist pattern |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB9520610(D0) |
申请公布日期 |
1995.12.13 |
| 申请号 |
GB19950020610 |
申请日期 |
1995.10.09 |
| 申请人 |
HYUNDAI ELECTRONICS INDUSTRIES CO. LTD. |
发明人 |
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| 分类号 |
G03F7/004;G03F7/00;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/075;G03F7/095;G03F7/26;G03F7/32;G03F7/36;G03F7/40;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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