发明名称 | 正性辐射线敏感涂层液 | ||
摘要 | 本发明描述了一种正性辐射线敏感的涂层液,其中含有辐射线敏感的化合物(例如,1,2-萘醌二叠氮化物)或者辐射线敏感的化合物的组合物(例如由至少具有一个可以被酸裂解的C-O-C键的化合物,与辐射线能使之形成强酸的化合物组成的),以及有机溶剂或者有机溶剂混合物作为基本成分。所说的溶剂混合物,至少大部分是由1,2-丙二醇的单C1烷基醚至单C4烷基醚所组成。与已知的正性光致抗蚀溶液相比,这个溶液的毒性小,具有较好的涂层均化性。 | ||
申请公布号 | CN1030113C | 申请公布日期 | 1995.10.18 |
申请号 | CN85105070.0 | 申请日期 | 1985.07.03 |
申请人 | 赫彻斯特股份公司 | 发明人 | 汉斯·鲁克特;拉尔夫·奥兰马克 |
分类号 | G03C1/49 | 主分类号 | G03C1/49 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 俞辉君;戴真秀 |
主权项 | 1.正性辐射敏感涂层液,其中含有:a)10-50%(重量)的总固体物质,该总固体物质相对于该固体物质的总重量计含3%-50%(重量)辐射线敏感的化合物或者辐射线敏感的化合物的组合物,该组合物含0.1%至10%(重量)可辐射形成酸的化合物和8%至65%(重量)可被该酸裂解的化合物,以及b)90%-50%(重量)的有机溶剂或者有机溶剂混合物,相对于该溶剂或溶剂混合物的总重量计,所说的溶剂或溶剂混合物含65-100%(重量)1,2-丙二醇的单一C1-C4-烷基醚。 | ||
地址 | 联邦德国法兰克福/梅因80 |