| 发明名称 |
PRODUCTION OF PHOTOSENSITIVE POLYAMIDE-BASED RESIN, PHOTOSENSITIVE POLYAMIDE-BASED RESIN AND PHOTOSENSITIVE POLYAMIDE-BASED RESIN COMPOSITION OBTAINED BY THE SAME PRODUCTION |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH07228656(A) |
申请公布日期 |
1995.08.29 |
| 申请号 |
JP19940022945 |
申请日期 |
1994.02.22 |
| 申请人 |
HITACHI CHEM CO LTD |
发明人 |
SATO KUNIAKI;SUZUKI KENJI;ITO TOSHIHIKO;MUKOYAMA YOSHIYUKI |
| 分类号 |
G03F7/027;C08F290/00;C08F290/14;C08G18/34;C08G18/83;C08G59/14;C08G69/48;C08L63/00;C08L77/00;G03F7/038;(IPC1-7):C08G18/34 |
主分类号 |
G03F7/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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